

| あ | IR [あいあーる] / [ ir ] |
|---|---|
| IRとは英語のinfraredの略号で赤外線を意味する。赤外線とは名前の通り赤色の外にある光で人の目には見えない波長780nmより長い光のことを言う。熱線とも呼ばれるように熱作用の大きい光である。 | |
| IRレーザー [あいあーるれーざー] / [ ir laser ] | |
| IRレーザーとはinfrared laserの事を指し赤外線を発振するレーザー発振器を意味する。赤外線とは波長780nmより長い光のことを言う。熱線とも呼ばれるように熱作用の大きい光である。CO2レーザーやYAGレーザーがあり鋼鈑や金属の溶接や切断に利用されている。 | |
| アッテネーター [あってねーたー] / [ attenuator ] | |
| アッテネーターとはレーザー光の光量を減衰させるための光学モジュールのことで、可変減衰できる製品が主流です。 | |
| アパーチャー [あぱーちゃー] / [ aperture ] | |
| アパーチャーとは輪郭補正用の光学系パーツで通過する光の面積を制限するものです。 通常は板状の薄い金属板に丸や四角の穴の空いた形状をしています。 | |
| アンプ [あんぷ] / [ amplifier ] | |
| レーザーで使用されるアンプとはオシレーターから発振されたレーザー光のパワーを上げるために使用するレーザーに似た装置です。 | |
| い | E/O Qスイッチ [いーおーきゅーすいっち] / [ E/O Q switch ] |
| E/O Qスイッチとは電機光学効果結晶という電圧を加えると屈折率が変化する素子を使ったQスイッチのことです。 | |
| 1/e2 [いーじじょうぶんのいち] / [ 1/e2 ] | |
| 1/e2とはビームの断面で、単位面積あたりのパワーが単位面積あたりの最大パワーの1/e となる対称の2点間の距離のことを言います。 | 位相板 [いそうばん] / [ phase plate ] |
| 位相板とは直線偏光を円偏光に円偏光を直線偏光に変換する板状の光学素子のことを言います。また波長板とも言います。 | |
| YLF [いるふ] / [ YLF ] | |
| YLFとはリチウム・イットリウム・フロライド(LiYF4)の略で固体レーザー発振器のレーザー媒質の一種です。 | |
| YLFレーザー [いるふれーざー] / [ YLF laser ] | |
| YLFレーザーのYLFとはリチウム・イットリウム・フロライドの略でYLFレーザーとはそれらYLF結晶にNdイオンなどがドープされたロッドやディスクにLD(ダイオードレーザー)やランプにより励起して作り出した波長1046nmや1053nmのレーザー光を発振するレーザーのことです。 | |
| インターナルトリガー [いんたーなるとりがー] / [ internal trigger ] | |
| インターナルトリガーとは装置内部でトリガー信号を送ることをいいます。レーザーの場合は内部からのTTL信号によりレーザーが発振する仕組みのことです。 | |
| イントラキャビティー [いんとらきゃびてぃー] / [ intra cavity ] | |
| イントラキャビティーとはレーザー共振器(キャビティー)内に高調波結晶を配置した構造のことを言います。 | |
| インナーマーキング [いんなーまーきんぐ] / [ inner marking ] | |
| インナーマーキングとはガラスなどの透明体の内側にマーキングする技術です。材料を透過するレーザー光を使用することにより加工が出来ます。 | |
| え | ArF [えーあーるえふ] / [ ArF ] |
| ArFとはエキシマレーザーで使用されるガスでArFガスを使用すると193nmの真空紫外線を発振します。 | |
| ARコーティング [えーあーるこーてぃんぐ] / [ AR coating ] | |
| ARコーティングとはAnti Reflection コーティングの略で反射防止膜のことです。レンズなどの光学素子にARコートを施すとガラス表面で起こる反射を防ぐことが出来、結果として透過効率を上げることが出来ます。 | |
| A/O Qスイッチ [えーおーきゅーすいっち] / [ A/O Q switch ] | |
| A/O Qスイッチとは超音波をかけると屈折率が変化する素子を使ったQスイッチのことです。 | |
| エキシマレーザー [えきしまれーざー] / [ excimer laser ] | |
| エキシマレーザーとはガスレーザーの一種で紫外線(UV)を発振するレーザー発振器です。ハロゲンガスとレアガスの組み合わせガスを使用し高電圧をかけ発振します。 | |
| エクスターナルトリガー [えくすたーなるとりがー] / [ external trigger ] | |
| エクスターナルトリガーとは外部からトリガー信号を送ることをいいます。レーザーの場合は外部からのTTL信号を受けてレーザーが発振する仕組みのことです。 | |
| エクストラキャビティー [えくすとらきゃびてぃー] / [ extra cavity ] | |
| エクストラキャビティーとはレーザー共振器(キャビティー)外に高調波結晶を配置した構造のことを言います。 | |
| SHG [えすえいちじー] / [ second harmonic generation ] | |
| SHGとは Second Harmonic Generation の略で、レーザー基本波の2倍の周波数(波長の2分の1)の総称です。YAGレーザーの場合は1064nmの1/2で532nmとなります。 | |
| SBR [えすびーあーる] / [ SBR ] | |
| SBRとはSaturable Bragg Reflectorの略で、飽和性色素のように、入射強度が大きくなると、吸収係数が減少し、吸収光量の飽和が起きる吸収体や、高い準位の放射の入射で吸収係数が減少するレーザー色素や光学素子などを言います。可飽和吸収体とも言います。 | |
| Ho:YAG [えっちおーやぐ] / [ Ho:YAG ] | |
| Ho:YAGとはYAGロッドにホルミウムHo3+をドープした固体レーザー媒質のことを言いますが、レーザー発振器そのものを指す場合もあります。 | |
| NA [えぬえー] / [ NA ] | |
| NAとは開口数のことで対物レンズの性能を示す数値の一つです。NAは、物体から対物レンズに入射する光線の光軸に対する最大角度をθ、物体と対物レンズの間の媒質の屈折率をnとして、NA = n sin θと表される。NAが大きいほど対物レンズの分解能は高くなる。 | |
| ns [えぬえす] / [ ns ] | |
| nsとはナノ秒のことで国際単位系(SI)で、メートル法の単位の上に付けて10億分の1、すなわち1nsは1/10億秒のこと。 | |
| Nd:YAG [えぬでぃーやぐ] / [ Nd:YAG ] | |
| Nd:YAGとはYAGロッドにネオジウムNd3+をドープした固体レーザー媒質のことを言いますが、レーザー発振器そのものを指す場合もあります。 | |
| FHG [えふえいちじー] / [ fourth harmonic generation ] | |
| FHGとは Fourth Harmonic Generation の略で、レーザー基本波の4倍の周波数(波長の4分の1)の総称です。YAGレーザーの場合は1064nmの1/4で266nmとなります。 | |
| fs [えふえす] / [ fs ] | |
| fsとはフェムト秒のことで国際単位系(SI)で、単位の上に付けて1000兆分の1、すなわち1fsは1/1000兆秒のこと | |
| Fθレンズ [えふしーたーれんず] / [ F-theta lens ] | |
| Fθレンズとはガルバノスキャナーやポリゴンミラーと組み合わせて使用される特殊なレンズのことで、レーザーの走査速度を一定に補正するレンズです。 | |
| F2 [えふつー] / [ F2 ] | |
| F2とはエキシマレーザーで使用されるガスでF2ガスを使用すると157nmの真空紫外線を発振します。 | |
| ms [えむえす] / [ ms ] | |
| msとはミリ秒のことで国際単位系(SI)で、単位の上に付けて1000分の1、すなわち1msは1/1000秒のこと | |
| M2 [えむすくえあー] / [ M square ] | |
| M2とはレーザー光の横モード品質のことです。 | |
| LD [えるでぃー] / [ LD ] | |
| 半導体レーザーを英語でLaser Diode と呼びそれを略してLDと表します。 | |
| LD励起 [えるでぃーれいき] / [ LD pumping ] | |
| LD励起とは固体レーザー発振器でレーザー媒質となるYAG等の結晶を励起させるため光源にLD(ダイオードレーザー)を使用した励起のことです。 | |
| LBO [えるびーおー] / [ LBO ] | |
| LBOとは非線形光学結晶(LiB3O5)のことで主に基本波を2倍波、3倍波、4倍波に変換するために使用されます。 | |
| エンドポンプ [えんどぽんぷ] / [ end pumping ] | |
| エンドポンプとは励起方法(ポンピング)の一種でレーザー媒質のロッドやディスクなどの後方から励起する構造です。後方とはレーザー光軸と同軸上の垂直方向になります。 | |
| 円偏光 [えんへんこう] / [ circular polarization ] | |
| 円偏光とは光の進行方向に対し偏光面を示すベクトルの向きが円を描きながら回転している偏光のことを言います。 | |
| お | オシレーター [おしれーたー] / [ oscillator ] |
| オシレーターとはアンプ装置を取り付けたレーザー発振器の元となるレーザー光源のことまたはその光のことを指します。 | |
| ω [おめが] / [ omega ] | |
| ωとは基本波のことで高調波結晶を用いないで発振させた場合のレーザー光の総称を言います。YAGであれば1064nmの波長になります。 |
| か | 開口数 [かいこうりつ] / [ Numerical Aperture ] |
|---|---|
| 開口数とは対物レンズの性能を示す数値の一つでNAとも言います。NAは、物体から対物レンズに入射する光線の光軸に対する最大角度をθ、物体と対物レンズの間の媒質の屈折率をnとして、NA = n sin θと表される。NAが大きいほど対物レンズの分解能は高くなる。 | |
| 回折光学素子 [かいせつこうがくそし] / [ diffractive optics ] | |
| 回折光学素子とはレーザー光を回折させることにより集光させたりビームプロファイルをシェーピングさせたりする光学素子のことです。外観は板状の透明材料に階段状のステップエッジが刻まれています。 | |
| ガイド光 [がいどこう] / [ alignment beam ] | |
| ガイド光とはレーザー光をアライメントするための補助光のことでUVレーザーやIRレーザーでは目に見えないため別に可視光レーザーの光を使用します。 | |
| 外部トリガー [がいぶとりがー] / [ external trigger ] | |
| 外部トリガーとは外部からトリガーとなるTTL信号等を送ることをいいます。レーザーの場合は外部からのTTL信号を受けてレーザーが発振する仕組みのことです。 | |
| 可視光 [かしこう] / [ visible ] | |
| 可視光とは人の目に見える領域の光のことを言い、波長380nmから780nmの光のことを言う。 | |
| 可視光レーザー [かしこうれーざー] / [ visible laser ] | |
| 可視光レーザーとは可視光域の光を発振するレーザー発振器のこと。可視光とは人の目に見える領域の光のことを言い、波長380nmから780nmの光のことを言う。 | |
| ガスレーザー [がすれーざー] / [ gas laser ] | |
| ガスレーザーとは気体放電を利用してレーザー光を作り出すレーザー発振器のことを呼び、主な加工用レーザーには炭酸ガスレーザーとエキシマレーザーがあります。 | |
| ガルバノスキャナー [がるばのすきゃなー] / [ galvanometer scanner ] | |
| ガルバノスキャナーとはレーザー光を走査させる為のサーボモーターのことを言いますが、モーターだけでなくドライバーを含めたモジュール全体のことをいうこともあります。 | |
| ガルバノミラー [がるばのみらー] / [ galvanometer mirror ] | |
| ガルバノミラーとはガルバノスキャナーと呼ばれる光学モジュールで使用されるミラーのことです。高速で稼動させるため軽さも重要です。 | |
| 観察光学系 [かんさつこうがくけい] / [ monitoring optical system ] | |
| 観察光学系とはレーザー加工を観察するための光学系で加工部位が小さいほど大きな倍率の観察光学系が必要です。大きく分けて同軸タイプと外部型があります。 | |
| き | 基本波 [きほんは] / [ fundamental wave ] |
| 基本波とは高調波結晶を用いないで発振させた場合のレーザー光の総称を言います。YAGであれば1064nmの波長になります。 | |
| キャビティー [きゃびてぃー] / [ cavity ] | |
| レーザーでのキャビティーとは共振器のことをいい、共振器とはレーザー光が作られるために定常波を作り出す空間(全反射ミラーと出力ミラーの間)を言いますが、装置そのものを呼ぶ場合もあります。 | |
| キャビティーミラー [きゃびてぃーみらー] / [ resonator mirror ] | |
| キャビティーミラーとはレーザー共振器内で使用されるミラーのことで出力ミラーと全反射ミラーがあります。 | |
| Qスイッチ [きゅーすいっち] / [ Q switch ] | |
| Qスイッチとはパルス固体レーザーで使用される部品の一種で高いパルスエネルギーを作り出すための光学部品です。通常はレーザー発振器の筐体内に内蔵されています。 | |
| 共振器 [きょうしんき] / [ resonator ] | |
| 共振器とはレーザー光が作られるために定常波を作り出す空間(全反射ミラーと出力ミラーの間)を言いますが、装置そのものを呼ぶ場合もあります。 | |
| 近赤外線 [きんせきがいせん] / [ near infrared ] | |
| 近赤外線とは波長の長い赤外線を遠赤外線というのに対しての呼称で波長780nmから3μmぐらいの赤外線域の光のことを言う。 | |
| 近赤外線レーザー [きんせきがいせんれーざー] / [ near infrared laser ] | |
| 近赤外線レーザーとは近赤外線を発振するレーザー発振器のことを指す。近赤外線とは波長の長い赤外線を遠赤外線というのに対しての呼称で波長780nmから3μmぐらいの赤外線域の光のことを言う。 | |
| く | 空間モード [くうかんもーど] / [ spatial mode ] |
| 空間モードとは横モードのことを指し共振器の光軸に垂直な方向のモードのことです。レーザー発振器から出射された光線の断面を見ると1個で点対称(円や楕円など)となる横シングルモードや複数の円や楕円が現れる横マルチモードがあります。 | |
| グリーンレーザー [ぐりーんれーざー] / [ green laser ] | |
| グリーンレーザーとは波長532nm付近の緑色の光を発振するレーザー発振器の総称です。 | |
| 繰り返し周波数 [くりかえししゅうはすう] / [ pulse repetition rate ] | |
| レーザーでの繰り返し周波数とはパルスレーザー発振器において1秒間にレーザー光の発振する間隔を示すものでHzで表します。 | |
| け | KrF [けーあーるえふ] / [ KrF ] |
| KrFとはエキシマレーザーで使用されるガスでKrFガスを使用すると248nmの真空紫外線を発振します。 | |
| KCl [けーしーえる] / [ KCl ] | |
| KClとは遠赤外線を透過する光学結晶のことでCO2レーザーのレンズに使用されています。 | |
| KTP [けーてぃーぴー] / [ KTP ] | |
| KPTとは非線形光学結晶(KTiOPO4)のことで主に基本波を2倍波、3倍波、4倍波に変換するために使用されます。 | |
| こ | 光子エネルギー [こうしえねるぎー] / [ photon energy ] |
| 光子エネルギーとはフォトンエネルギーのことで光子の持つエネルギーのことです。 | |
| 合成石英 [ごうせいせきえい] / [ quarts ] | |
| 合成石英とは四塩化ケイ素を元に製造される石英材料のことで不純物が無くレーザーの光学材料として使用されています。紫外線から近赤外線をよく透過します。 | |
| 高調波 [こうちょうは] / [ harmonic generation ] | |
| 高調波とは基本波に対し使用する言葉で、ある非線形結晶にレーザー光を透過させると周波数の2倍や3倍(波長の2分の1や3分の1)になりますが、これら周波数が倍増した波を高調波と言います。 | |
| 固体レーザー [こたいれーざー] / [ solid state laser ] | |
| 固体レーザーとはランプやLDでレーザー媒質(レーザーロッド等)を照射し、動作物質を励起してレーザー光を作り出すレーザー発振器のことで、加工用レーザーとしてはNd:YAGレーザーやファイバーレーザーがあります。 | |
| コンプレッサー [こんぷれっさー] / [ compressor ] | |
| レーザーでのコンプレッサーとはパルスコンプレッサーのことを意味し、パルス幅を短くさせるための部分のことを言う。 |
| さ | サイドポンプ [さいどぽんぷ] / [ side pumping ] |
|---|---|
| サイドポンプとは励起方法(ポンピング)の一種でレーザー媒質のロッドやディスクなどの横側から励起する構造です。横側とはレーザー光軸と直交する側、つまり水平方向になります。 | |
| サチュレーション [さちゅれーしょん] / [ saturation ] | |
| サチュレーションとは飽和のことです。 | |
| サファイア [さふぁいあ] / [ sapphire ] | |
| サファイアとはレーザー用の光学材料で、この材料でレンズを製作すると通常のレンズと比べ規則正しい結晶構造をもつ ため、強度に優れ、屈折率1.77、アッべ数72というレンズになります。紫外線から中赤外線を透過する光学材料です。 | |
| 3ω [さんおめが] / [ 3 omega ] | |
| 3ωとはレーザー基本波の3倍の周波数(波長の3分の1)の総称です。YAGレーザーの場合は1064nmの1/3で355nmとなります。 | |
| し | CaF2 [しーえーえふつー] / [ CaF2 ] |
| CaF2とは紫外線をよく透過する光学結晶のことでレーザー用のレンズに使用される材料です。 | |
| CLBO [しーえるびーおー] / [ CLBO ] | |
| CLBOとは非線形光学結晶(CsLi6O10)のことで主に4倍波に変換するために使用されます。 | |
| CO2レーザー [しーおーつーれーざー] / [ CO2 laser ] | |
| CO2レーザーとは炭酸ガスレーザーのことでガスレーザーの一種です。赤外線(IR)を発振しメジャーな波長としては10.6ミクロンを発振します。出力が大きなレーザーがあり、溶接や鋼鈑の切断に利用されています。 | |
| CW [しーだぶりゅー] / [ continuous wave ] | |
| CWとは連続波のことでレーザー光をとぎれなく連続して発振することを意味し、パルス波でないことです。 | |
| シード光 [しーどこう] / [ seed light ] | |
| シード光とはアンプ装置を取り付けたレーザー発振器の元となるレーザー光源のことまたはその光のことを指します。 | |
| 紫外線 [しがいせん] / [ ultraviolet ] | |
| 紫外線とは名前の通り紫色の外側に有る光のことで人の目には見えない波長380nmより短い光のことを言う。光エネルギーが高くアブレーション加工に用いられる。 | |
| 紫外線レーザー [しがいせんれーざー] / [ UV laser ] | |
| 紫外線レーザーとは(UV)紫外線を発振するレーザー発振器のことを指す。UVとは英語のultravioletの略号で紫外線のことを意味する。紫外線とは名前の通り紫色の外側に有る光のことで人の目には見えない波長380nmより短い光のことを言う。光エネルギーが高くアブレーション加工に用いられる。 | |
| 閾値 [しきいち] / [ threshold ] | |
| 閾値とは、物質にエネルギーが加えられるときそのエネルギーによってある反応が起こる時、そのエネルギーがある値以上に強くなければ その反応は起こらない。その限界値のことです。 「しきい値」ともいいます。 | |
| シフター [しふたー] / [ shifter ] | |
| レーザーでのシフターとは高調波結晶がダメージを受けた際にダメージのない場所に光を通すように高調波結晶を移動させるための構造を言います。 | |
| ジャイアントパルス [じゃいあんとぱるす] / [ giant pulse ] | |
| ジャイアントパルスとはQスイッチにより作られるエネルギーの高いパルスの総称のことです。 | |
| シャッター [しゃったー] / [ shutter ] | |
| シャッターとはレーザー光を遮るための光学系パーツです。 | |
| 集光レンズ [しゅうこうれんず] / [ focusing lens ] | |
| 集光レンズとはレーザー光をワーク面で集光させて焦点を結ばせる光学モジュールのことで、単レンズや組み合わせレンズがあります。 | |
| 自由電子レーザー [じゆうでんしれーざー] / [ free electron laser ] | |
| 自由電子レーザーとは真空中の高速電子を光速近くまで加速し、その電子ビームを曲げるとビームエネルギーの一部が光になるシンクロトロン放射の手法で作られたレーザーのことを言います。 | |
| 出力 [しゅつりょく] / [ energy output ] | |
| レーザーでの出力とは時間あたりのエネルギー量を指すことでW(ワット)で表示する。 | |
| 出力ミラー [しゅつりょくみらー] / [ output coupler ] | |
| 出力ミラーとは共振器内部で増幅された光の一部を外部へ出すためのミラーです。 | |
| ジョブショップ [じょぶしょっぷ] / [ laser processing shop ] | |
| ジョブショップとは所有しているシステムで試作から生産までのレーザー加工を請け負う会社のことを総称して言います。 | |
| シリンドリカルレンズ [しりんどりかるれんず] / [ cylindrical lens ] | |
| シリンドリカルレンズとは円筒状のレンズのことで1方向にのみ曲率のあるレンズです。代表的な形状としてはカマボコ型のものがあります。 | |
| 真空紫外 [しんくうしがい] / [ deep ultraviolet ] | |
| 真空紫外とは名前の通り真空域でしか伝播しにくい光のことを言い、200nmより短い光のことを呼ぶ。エキシマレーザーのArF(193nm)やF2(157nm)が真空紫外線光になる。 | |
| ZnSe [じんくせれん] / [ ZnSe ] | |
| ZnSeとは遠赤外線を透過する光学結晶のことでCO2レーザーのレンズに使用されています。 | |
| シングルショット穴あけ [しんぐるしょっとあなあけ] / [ single shot driling ] | |
| シングルショット穴あけとはパルスレーザーを使用した加工においてレーザーを1ショットだけを照射し穴をあける加工のこと。 | |
| シングルフリークエンシー [しんぐるふりーくえんしー] / [ single frequency ] | |
| シングルフリークエンシーとは単一周波数のことで横シングルモードのレーザー発振において縦モードで完全に1本の発振周波数のみ出力することを言います。 | |
| シングルモード [しんぐるもーど] / [ single mode ] | |
| シングルモードとは横モードの一つでレーザー発振器から出射された光線の断面を見ると1個で点対称(円や楕円など)となるモードのことです。 | |
| シングルレンズ [しんぐるれんず] / [ single lens ] | |
| シングルレンズとは1枚で構成されたレンズの総称です。 | |
| す | ステルスダイシング [すてるすだいしんぐ] / [ stealth dicing ] |
| ステルスダイシングとはシリコンウエハの内部にレーザー光を照射して選択的に改質層を形成させながらダイシングラインを形成し、その改質層を垂直に成長させてチップ分割する仕組みのことです。ステルスとは内密という意味で、切断部がウエハ内部に隠れたままの状態でダイシングが行われることから命名されています。 | |
| ストレッチャー [すとれっちゃー] / [ stretcher ] | |
| レーザーでのストレッチャーとはパルスストレッチャーのことを意味し、パルス幅を伸長させるための部分のことを言う。 | |
| スレッシュホールド [すれっしゅほーるど] / [ threshold ] | |
| スレッシュホールドとは閾値のことで、物質にエネルギーが加えられるときそのエネルギーによってある反応が起こる時、そのエネルギーがある値以上に強くなければ その反応は起こらない。その限界値のことです。 「しきい値」ともいいます。 | |
| せ | 赤外線 [せきがいせん] / [ infrared ] |
| 赤外線とは波長780nmより長い光のことを言う。熱線とも呼ばれるように熱作用の大きい光である。 | |
| 赤外線レーザー [せきがいせんれーざー] / [ infrared laser ] | |
| 赤外線レーザーとは赤外線を発振するレーザー発振器のこと。赤外線とは波長780nmより長い光のことを言う。熱線とも呼ばれるように熱作用の大きい光である。CO2レーザーやYAGレーザーがあり鋼鈑や金属の溶接や切断に利用されている。 | |
| XeCl [ぜのんくろらいど] / [ XeCl ] | |
| XeClとはエキシマレーザーで使用されるガスでXeClガスを使用すると308nmの真空紫外線を発振します。 | |
| 全角 [ぜんかく] / [ full angle ] | |
| レーザーでの全角とはレーザーの拡がり角を示すときに使用する用語でレーザー発振器から発せられたレーザービームの広がる角度全体を指します。 | |
| 全反射ミラー [ぜんはんしゃみらー] / [ high reflective mirror ] | |
| ここでの全反射ミラーとは共振器ミラーのことで、名前の通り全部の光を反射させるためのミラーです。波長や使用によりますが100%の光を反射させます。 | |
| そ | 増幅器 [ぞうふくき] / [ amplifier ] |
| レーザーで使用される増幅器とはオシレーターから発振されたレーザー光のパワーを上げるために使用するレーザーに似た装置です。 |
| た | ダイオードレーザー [だいおーどれーざー] / [ diode laser ] |
|---|---|
| 半導体材料で作るレーザーを総称してダイオードレーザーと呼びます。英語ではレーザーダイオードですが日本ではダイオードレーザーと呼ぶことが多いようです。化合物半導体を使ったレーザーが多く、PN接合の手法を利用してレーザー光を作り出します。 | |
| ダイクロイックミラー [だいくろいっくみらー] / [ dichroic mirror ] | |
| ダイクロイックミラーとは誘電体多層膜により、2つ以上の波長域の光を分離する フィルターで、特定の波長のみ反射し、その他の波長は透過させるミラーのことです。 | |
| 第3高調波 [だいさんこうちょうは] / [ third harmonic generation ] | |
| 第3高調波とはレーザー基本波の3倍の周波数(波長の3分の1)の総称です。YAGレーザーの場合は1064nmの1/3で355nmとなります。 | |
| 第2高調波 [だいにこうちょうは] / [ second harmonic generation ] | |
| 第2高調波とはレーザー基本波の2倍の周波数(波長の2分の1)の総称です。YAGレーザーの場合は1064nmの1/2で532nmとなります。 | |
| ダイバージェンス [だいばーじぇんす] / [ divergence ] | |
| ダイバージェンスとはレーザー発振器から発せられたレーザー光が広がる角度を示します。半角で表す場合と全角で表す場合があります。 | |
| 第4高調波 [だいよんこうちょうは] / [ fourth harmonic generation ] | |
| 第4高調波とはレーザー基本波の4倍の周波数(波長の4分の1)の総称です。YAGレーザーの場合は1064nmの1/4で266nmとなります。 | |
| 楕円偏光 [だえんへんこう] / [ elliptic polarization ] | |
| 楕円偏光とは光の進行方向に対し偏光面を示すベクトルの向きが楕円を描きながら回転している偏光のことを言います。 | |
| 多光子吸収 [たこうしきゅうしゅう] / [ multiphoton absorption ] | |
| 多光子吸収とは物質が複数個の同種、もしくは異種の光子を吸収する現象のことを言います。 | |
| 縦モード [たてもーど] / [ longitudinal mode ] | |
| 縦モードとはレーザー媒質の利得の範囲内で共振器のミラー間距離によっていくつかの周波数のものが同時に発振されていますがこれらを縦モードと言います。 | |
| 種光源 [たねこうげん] / [ seed laser ] | |
| 種光源とはアンプ装置を取り付けたレーザー発振器の元となるレーザー光源のことを指します。 | |
| ダブレットレンズ [だぶれっとれんず] / [ doublet lens ] | |
| ダブレットレンズとは2枚で構成されたフォーカスレンズの総称です。単レンズよりも収差補正が出来るため加工精度が上がります。 | |
| 単一周波数 [たんいつしゅうはすう] / [ single frequency ] | |
| 単一周波数とは横シングルモードのレーザー発振において縦モードで完全に1本の発振周波数のみ出力することを言います。 | |
| 短パルスレーザー [たんぱるすれーざー] / [ short pulse laser ] | |
| 短パルスレーザーとはパルス幅がピコ秒以下で発振するレーザー発振器のこと。加工用レーザー発振器としてはピコ秒とフェムト秒がある。 | |
| 炭酸ガスレーザー [たんんさんがすれーざー] / [ CO2 laser ] | |
| 炭酸ガスレーザーとはガスレーザーの一種で出力が大きなレーザーがあり、溶接や鋼鈑の切断に利用されています。赤外線(IR)を発振しメジャーな波長としては10.6ミクロンを発振します。 | |
| ち | Tiサファイアレーザー [ちたんさふぁいあれーざー] / [ Ti: Sapphire ] |
| TiサファイアレーザーとはサファイアのロッドにTiをドープした(Al2O3+Ti2)固体レーザー媒質を用いてレーザー光を作り出すレーザー発振器のことです。 | |
| 直線偏光 [ちょくせんへんこう] / [ linear polarization ] | |
| 直線偏光とは偏光面と振動面が同位相で進み一定となっている偏光を言います。 | |
| チラー [ちらー] / [ chiller ] | |
| チラーとは水を一定の温度に冷やすための装置のことです。 | |
| て | THG [てぃーえいちじー] / [ third harmonic generation ] |
| THGとは Third Harmonic Generation の略で、レーザー基本波の3倍の周波数(波長の3分の1)の総称です。YAGレーザーの場合は1064nmの1/3で355nmとなります。 | |
| DPSS [でぃーぴーえすえす] / [ DPSS ] | |
| DPSSとはDiode Pumping Solid State の略でLD励起固体レーザーのことです。 | |
| ディープUV [でぃーぷうゆーぶい] / [ deep uv ] | |
| ディープUVとは真空紫外のことで名前の通り真空域でしか伝播しにくい光のことを言い、200nmより短い光のことを呼ぶ。エキシマレーザーのArF(193nm)やF2(157nm)が真空紫外線光になる。 | |
| DUV [でぃーゆーぶい] / [ duv ] | |
| DUVとは英語のdeep ultravioletの略語で真空紫外のことを指し、名前の通り真空域でしか伝播しにくい光のことを言い、200nmより短い光のことを呼ぶ。エキシマレーザーのArF(193nm)やF2(157nm)が真空紫外線光になる。 | |
| 定常波 [ていじょうは] / [ standing wave ] | |
| 定常波とはレーザーの場合共振器内のミラーへ進む波と引き返す波がきれいに重なり止まったような波になることです。 | |
| ディスクレーザー [でぃすくれーざー] / [ disc laser ] | |
| ディスクレーザーとは固体レーザーの1種で励起用固体素子の形状が薄いディスク形状をしたものを使用しているレーザー発振器です。Ndイオンの代わりにYAGの結晶とマッチングの良いYbイオンを高い濃度で混入しLD(ダイオードレーザー)で高密度な励起を行うことで、薄いディスク状の媒体から波長約1ミクロンのレーザー光を大きな出力が得られます。 | |
| デブリ [でぶり] / [ debris ] | |
| デブリとはアブレーション加工の際に材料から噴出する加工クズのこと。 | |
| TEM [てむ] / [ TEM ] | |
| TEMとはTransverse Electromagnetic Mode の略で波の伝搬方向に電場の成分と磁場の成分がゼロであるような導波路のモード。 | |
| テレセントリックレンズ [てれせんとりっくれんず] / [ telecentric lens ] | |
| テレセントリックレンズとは、主光線がレンズ光軸に対して平行になるように設計されたレンズのことです。このため画角が限り無く0度に近く、ディストーション(歪曲収差)が小さいので、被写体の寸法や位置を正確にとらえる事が可能です。 | |
| と | 銅蒸気レーザー [どうじょうきれーざー] / [ copper vapor laser ] |
| 銅蒸気レーザーとはセラミックス管に10kHオーダーの高繰り返しの放電を加え内部の銅を蒸気化して電子励起することで発振するレーザー発振器で10nsec前後、十数Wの可視光パルス出力が得られます。その大きさ故産業よりも研究機関で使用されています。 | |
| トリプレットレンズ [とりぷれっとれんず] / [ triplet lens ] | |
| トリプレットレンズとは3枚で構成されたフォーカスレンズの総称です。単レンズよりも収差補正が出来るため加工精度が上がります。 | |
| トレパニング穴あけ [とれぱにんぐあなあけ] / [ trepaning ] | |
| トレパニング穴あけとはレーザー光をワーク上で円移動させて穴をあけるレーザー加工のことを言う。 |
| な | 内部トリガー [ないぶとりがー] / [ internal trigger ] |
|---|---|
| 内部トリガーとは装置内部でトリガー信号を送ることをいいます。レーザーの場合は内部からのTTL信号によりレーザーが発振する仕組みのことです。 | |
| ナノセカンド [なのせかんど] / [ nano second ] | |
| ナノセカンドとはナノ秒のことで国際単位系(SI)で、メートル法の単位の上に付けて10億分の1、すなわち1ナノセカンドは1/10億秒のこと。 | |
| nsec [なのせっく] / [ nsec ] | |
| nsecとはナノ秒のことで国際単位系(SI)で、メートル法の単位の上に付けて10億分の1、すなわち1nsecは1/10億秒のこと。 | |
| ナノ秒 [なのびょう] / [ nano second ] | |
| ナノ秒とは国際単位系(SI)で、メートル法の単位の上に付けて10億分の1、すなわち1ナノ秒は1/10億秒のこと。 | |
| ナノ秒レーザー [なのびょうれーざー] / [ nano second laser ] | |
| ナノ秒レーザーとパルス幅がナノ秒の領域にあるレーザー発振器のこと。一般的なレーザー発振器はナノ秒であることが多い。 | |
| nm [なのめーとる] / [ nm ] | |
| nmとはナノメートルのことで国際単位系(SI)で、メートル法の単位の上に付けて10億分の1、すなわち1nmは1/10億メートルのこと。 | |
| ナノメートル [なのめーとる] / [ nano meter ] | |
| ナノメートルとは国際単位系(SI)で、メートル法の単位の上に付けて10億分の1、すなわち1ナノメートルは1/10億メートルのこと。 | |
| に | NIR [にあーあいあーる] / [ near infrared ] |
| NIRとは英語のnear infraredの略号で近赤外線を意味する。近赤外線とは波長の長い赤外線を遠赤外線というのに対しての呼称で波長780nmから3μmぐらいの赤外線域の光のことを言う。 | |
| NIRレーザー [にあーあいあーるれーざー] / [ near infrared laser ] | |
| NIRレーザーとは英語のnear infrared laserの略号で近赤外線を発振するレーザー発振器のことを指す。近赤外線とは波長の長い赤外線を遠赤外線というのに対しての呼称で波長780nmから3μmぐらいの赤外線域の光のことを言う。 | |
| 2ω [におめが] / [ 2 omega ] | |
| 2ωとはレーザー基本波の2倍の周波数(波長の2分の1)の総称です。YAGレーザーの場合は1064nmの1/2で532nmとなります。 | |
| 1/2波長板 [にぶんのいちはちょうばん] / [ half wave plate ] | |
| 1/2波長板とは直線偏光で偏光方向を90度回転させる位相板を1/2波長板と言います。 |
| は | パーカッション穴あけ [ぱーかっしょんあなあけ] / [ percussion driling ] |
|---|---|
| パーカッション穴あけはとはパルスレーザーを使用した穴あけ加工においてレーザーを少なくとも2ショット以上連続して同じところに照射し穴を開ける加工のこと。 | |
| ハーフアングル [はーふあんぐる] / [ half angle ] | |
| フルアングルとはレーザーの拡がり角を示すときに使用する用語でレーザー発振器から発せられたレーザービームの広がる角度を中心線から示す角度のことを言います。 | |
| ハエの目レンズ [はえのめれんず] / [ fly-eye lens ] | |
| ハエの目レンズとは単レンズを平面上に並べて組み合わせた特殊なレンズのことです。 | |
| 波長 [はちょう] / [ wave length ] | |
| 波長とは波の山から次の山、または谷から次の谷までの水平距離をさす。 | |
| 波長板 [はちょうばん] / [ wave plate ] | |
| 波長板とは直線偏光を円偏光に円偏光を直線偏光に変換する板状の光学素子のことを言います。また位相板とも言います。 | |
| バリアブルアッテネーター [ばりあぶるあってねーたー] / [ variable attenuator ] | |
| バリアブルアッテネーターとはレーザー光の光量を減衰させるための光学モジュールのことで、角度依存型の光学素子を使用するタイプのモノを言います。 | |
| パルスウィズ [ぱるすうぃず] / [ pulse width ] | |
| パルスウィズとはパルスレーザー発振器において1パルスあたりのレーザー光が照射されている時間の事です。 | |
| パルスエネルギー [ぱるすえねるぎー] / [ pulse energy ] | |
| レーザーでのパルスエネルギーとはパルスレーザー発振器の1パルスあたりのエネルギー量を示し、J(ジュール)で表示する。 | |
| パルス波 [ぱるすは] / [ pulsed oscillation ] | |
| パルス波とは一定の周波数でレーザー光を発振することを意味し、連続波でないことです。 | |
| パルス幅 [ぱるすはば] / [ pulse width ] | |
| パルス幅とはパルスレーザー発振器において1パルスあたりのレーザー光が照射されている時間の事です。 | |
| パワー [ぱわー] / [ power ] | |
| レーザーでのパワーとは時間あたりのエネルギー量を指すことでW(ワット)で表示する。 | |
| パワーメーター [ぱわーめーたー] / [ power meter ] | |
| パワーメーターとはレーザー光の出力を測定するための計測器のことを言います。製品によってはパルスレーザーのパルスエネルギーも測定できるモノがあります。 | |
| 半角 [はんかく] / [ half angle ] | |
| レーザーでの半角とはレーザーの拡がり角を示すときに使用する用語でレーザー発振器から発せられたレーザービームの広がる角度を中心線から示す角度のことを言います。 | |
| 半導体レーザー [はんどうたいれーざー] / [ semiconductor laser ] | |
| 半導体材料で作るレーザーを総称して半導体レーザーと呼びます。化合物半導体を使ったレーザーが多く、PN接合の手法を利用してレーザー光を作り出します。 | |
| バンドギャップ [ばんどぎゃっぷ] / [ bandgap ] | |
| バンドギャップとは伝導帯と価電子帯のエネルギー差のことです。バンドギャップ が大きい物質は絶縁体、バンドギャップが小さい物質は半導体、バンドギャップが無い 物質は導体となる。 | |
| バンドパスフィルター [ばんどぱすふぃるたー] / [ bandpass filter ] | |
| バンドパスフィルターとは有る特定の波長域のみを透過するフィルターのことです。 | |
| バンドパスミラー [ばんどぱすみらー] / [ bandpass mirror ] | |
| バンドパスミラーとは有る特定の波長域のみを反射するミラーのことです。 | |
| バンドルファイバー [ばんどるふぁいばー] / [ Bundle Fiber ] | |
| バンドルファイバーとはいくつもの光ファイバー素線を束ねて一つの大きなファイバーにしたファイバーのことです。バンドルファイバーは受光面積、 照射面積を自由に設計し、光を伝送することができます。 | |
| ひ | ps [ぴーえす] / [ ps ] |
| psとはピコ秒のことで国際単位系(SI)で、単位の上に付けて1兆分の1、すなわち1psは1/1兆秒のこと | |
| PLD [ぴーえるでぃー] / [ PLD ] | |
| PLDとはPulsed Laser Deposition の略でパルスレーザーを使用した成膜方法の一種です。 | |
| ピークパワー [ぴーくぱわー] / [ peak power ] | |
| レーザーでのピークパワーとはパルスエネルギーをパルス幅で割った値を指し、W(ワット)で表示します。 | |
| BK7 [びーけーせぶん] / [ BK7 ] | |
| BK7とは光学ガラスでもっとも一般的な材料で可視光域で使用される光学材料です。 | |
| BBO [びーびーおー] / [ BBO ] | |
| BBOとは非線形光学結晶(β-BaB2O4)のことで主に基本波を2倍波、3倍波、4倍波に変換するために使用されます。 | |
| ビームエキスパンダー [びーむえきすぱんだー] / [ beam expander ] | |
| ビームエキスパンダーとはレーザー光のビーム径を広げるための光学モジュールのことです。 | |
| ビーム径 [びーむけい] / [ beem diameter ] | |
| レーザーでのビーム径はレーザー光の直径のことを意味しますが、通常1/e2の値を指します。 | |
| ビームプロファイラー [びーむぷろふぁいらー] / [ beam profiler ] | |
| ビームプロファイラーとはレーザー光の強度分布であるビームプロファイルを測定するための測定器のことをいいます。 | |
| ビームプロファイル [びーむぷろふぁいる] / [ beam profile ] | |
| ビームプロファイルとはレーザー光を断面で見たときの強度分布をグラフ化したものを指します。 | |
| ビームホモジナイザー [びーむほもじないざー] / [ beam homogenizer ] | |
| ビームホモジナイザーとはレーザー光のプロファイルを照射面において均一化するための光学モジュールのことです。 | |
| 光アイソレーター [ひかりあいそれーたー] / [ optical isolator ] | |
| 光アイソレーターとはレーザーの戻り光を遮断するための光学素子の総称で偏光板や波長板を組み合わせて作られています。 | |
| ピコセカンド [ぴこせかんど] / [ pico second ] | |
| ピコセカンドとはピコ秒のことで国際単位系(SI)で、単位の上に付けて1兆分の1、すなわち1ピコセカンドは1/1兆秒のこと | |
| psec [ぴこせっく] / [ psec ] | |
| psecとはピコ秒のことで国際単位系(SI)で、単位の上に付けて1兆分の1、すなわち1psecは1/1兆秒のこと | |
| ピコ秒 [ぴこびょう] / [ pico second ] | |
| ピコ秒とは国際単位系(SI)で、単位の上に付けて1兆分の1、すなわち1ピコ秒は1/1兆秒のこと | |
| ピコ秒レーザー [ぴこびょうれーざー] / [ pico second laser ] | |
| ピコ秒レーザーとは短パルスレーザーの1種でパルス幅がピコ秒領域にあるレーザー発振器のこと。材料に左右されるがパルス幅が10ピコ秒より短いと熱影響が伝達する前に発振が終わるため熱影響がほとんど無い加工が可能になる。またパルス幅が短いのでピークパワーが大きく難加工材への加工も可能になる。 | |
| 非線形結晶 [ひせんけいけっしょう] / [ nonlinear crystal ] | |
| 非線形結晶とは光放射に対し、強く非線形の誘電的な応答機能を持っている光学結晶のことです。主に基本波を高調波にする際に使用し代表的なものにLBOやBBOなどがあります。 | |
| 拡がり角 [ひろがりかく] / [ divergence ] | |
| レーザーでの拡がり角とはレーザー発振器から発せられたレーザー光が広がる角度を示します。半角で表す場合と全角で表す場合があります。 | |
| ふ | ファイバーレーザー [ふぁいばーれーざー] / [ fiber laser ] |
| ファイバーレーザーとは共振器部分にファイバーを用いたレーザーの総称で、YbイオンやErイオンをドープしたシングルモードファイバのクラッドを2重構造にし、内側のクラッドにLDの励起光を流し込むようにして励起することで驚異的な効率で高品質なレーザー出力が得られます。発振波長はYbの場合、1ミクロンから1.1ミクロン、Erの場合1.5ミクロン領域です。Qスイッチやモードロックで短い時間幅のパルスを出力できるものもあります。 | |
| ファンダメンタル [ふぁんだめんたる] / [ fundamental ] | |
| ファンダメンタルとは基本波のことで高調波結晶を用いないで発振させた場合のレーザー光の総称を言います。YAGであれば1064nmの波長になります。 | |
| フェムトセカンド [ふぇむとせかんど] / [ femto second ] | |
| フェムトセカンドとは国際単位系(SI)で、単位の上に付けて1000兆分の1、すなわち1フェムトセカンドは1/1000兆秒のこと | |
| fsec [ふぇむとせっく] / [ fsec ] | |
| fsecとはフェムト秒とのことで国際単位系(SI)で、単位の上に付けて1000兆分の1、すなわち1fsecは1/1000兆秒のこと | |
| フェムト秒 [ふぇむとびょう] / [ femto second ] | |
| フェムト秒とは国際単位系(SI)で、単位の上に付けて1000兆分の1、すなわち1フェムト秒とは1/1000兆秒のこと | |
| フェムト秒レーザー [ふぇむとびょうれーざー] / [ femto second laser ] | |
| フェムト秒レーザーとは短パルスレーザーの1種でパルス幅がフェムト秒領域にあるレーザー発振器のこと。パルス幅が短いと熱影響が伝達する前に発振が終わるため熱影響がほとんど無い加工が可能になる。またパルス幅が短いのでピークパワーが大きく難加工材への加工も可能になる。 | |
| フォーカスレンズ [ふぉーかすれんず] / [ focusing lens ] | |
| フォーカスレンズとはレンズとはレーザー光をワーク面で集光させて焦点を結ばせる光学モジュールのことで、単レンズや組み合わせレンズがあります。 | |
| フォトンエネルギー [ふぉとんえねるぎー] / [ photon energy ] | |
| フォトンエネルギーとは光エネルギーのことで光子の持つエネルギーことです。 | |
| フライアイレンズ [ふらいあいれんず] / [ fly-eye lens ] | |
| フライアイレンズとは単レンズを平面上に並べて組み合わせた特殊なレンズのことです。 | |
| フルアングル [ふるあんぐる] / [ full angle ] | |
| フルアングルとはレーザーの拡がり角を示すときに使用する用語でレーザー発振器から発せられたレーザービームの広がる角度全体を指します。 | |
| フルエンス [ふるえんす] / [ fluence ] | |
| レーザーでのフルエンスとは単位面積あたりのエネルギー量を指し、J/cM2またはW/cM2で表します。 | |
| へ | Hz [へるつ] / [ hertz ] |
| Hzとは繰り返し周波数で使用する単位でパルスレーザー発振器において1秒間にレーザー光の発振する間隔を示すものです。 | |
| 偏光 [へんこう] / [ polarization ] | |
| 光波の振動方向の分布が一様でなく、つねに一定の平面に限られている光。振動方向が一直線上に限られる直線偏光、円や楕円を描く円偏光・楕円偏光がある。自然光は反射すると偏光になる。 | |
| 偏光板 [へんこうばん] / [ polarization plate ] | |
| 偏光板とはある一定方向の偏光を取り出すときに使用する板状の光学素子のことを言います。 | |
| 偏光プリズム [へんこうぷりずむ] / [ polarization prism ] | |
| 偏光プリズムとは偏光方向の違う波を一定方向の偏光方向を取り出す時に使用するプリズムのことを言います。ニコルプリズム、グラントムソンプリズム、ウォルサムプリズム等がある | |
| ほ | ポインティングスタビリティー [ぽいんてぃんぐすたびりてぃー] / [ pointing stability ] |
| ポインティングスタビリティーとはレーザーの安定性を示す一つの項目で、レーザー発振器においてある距離でレーザー光の当たる場所がどれぐらいの距離移動するかを測定した数値です。 | |
| 防振台 [ぼうしんだい] / [ vibration isolation system ] | |
| 防振台とはレーザー発振器や光学系をセットする台のことで名前が示すように地面から伝わる振動を防ぐ構造をしています。 | |
| 飽和 [ほうわ] / [ saturation ] | |
| 飽和とはある条件のもとで、ある量が増加していき、それ以上増加しなくなる最大限に達した状態のことです。 | |
| ポラライザー [ぽららいざー] / [ polarizer ] | |
| ポラライザーとはレーザー光のP波とS波とを分離するための光学素子のことです。 | |
| ポンピング [ぽんぴんぐ] / [ pumping ] | |
| レーザーでのポンピングとはレーザー媒質を励起することを意味します。 |
| ま | μm [まいくろめーとる] / [ um ] |
|---|---|
| μmとはマイクロメートルのことで国際単位系(SI)で、メートル法の単位の上に付けて100万分の1、すなわち1μmは1/100万メートルのこと。 | |
| マイクロメートル [まいくろめーとる] / [ micro meter ] | |
| マイクロメートルとは国際単位系(SI)で、メートル法の単位の上に付けて100万分の1、すなわち1マイクロメートルは1/100万メートルのこと。 | |
| マルチモード [まるちもーど] / [ multi mode ] | |
| マルチモードとは横モードの一つで、レーザー発振器から出射された光線の断面を見ると複数の円や楕円が現れるモードのことです。 | |
| み | ミクロン [みくろん] / [ micro ] |
| ミクロンとは国際単位系(SI)で、メートル法の単位の上に付けて100万分の1、すなわち1ミクロンは1/100万メートルのこと。 | |
| ミリセカンド [みりせかんど] / [ ㎜ second ] | |
| ミリセカンドとはミリ秒のことで国際単位系(SI)で、単位の上に付けて1000分の1、すなわち1ミリセカンドは1/1000秒のこと | |
| msec [みりせっく] / [ msec ] | |
| msecとはミリ秒のことで国際単位系(SI)で、単位の上に付けて1000分の1、すなわち1msecは1/1000秒のこと | |
| ミリ秒 [みりびょう] / [ ㎜ second ] | |
| ミリ秒とは国際単位系(SI)で、単位の上に付けて1000分の1、すなわち1ミリ秒は1/1000秒のこと | |
| も | モードロックレーザー [もーどろっくれーざー] / [ mode lock laser ] |
| モードロックレーザーとはNdイオンドープのYAG結晶を媒体としてAOM,や可飽和吸収体を組み合わせ、共振器の縦モードを同期して発振させます。ピコ秒領域のパルス幅で100MHz前後の繰り返しのレーザー光を作り出し、非線形光学結晶でUV域に波長変換も可能です。 | |
| 戻り光 [もどりこう] / [ feedback light ] | |
| 戻り光とはレーザー発振器から出たレーザー光がウインドやワークに当たってレーザー発振器へ帰ってくる光のことです。 | |
| MOPA [もぱ] / [ MOPA ] | |
| MOPAとはMaster Oscillator Power Amplifierの略語でレーザー発振器の構造が種光源からのレーザ光をアンプ器でパワー増幅する方式のこと。 |
| や | YAG [やぐ] / [ YAG ] |
|---|---|
| YAGとはイットリウム、アルミニウム、ガーネット(Y3Al5O12)の略で固体レーザー発振器のレーザー媒質の一種です。固体レーザーの中でもっとも幅広く使用されているレーザー媒質です。 | |
| YAGレーザー [やぐれーざー] / [ YAG laser ] | |
| YAGレーザーのYAGとはイットリウム・アルミニウム・ガーネットの略でYAGレーザーとはそれらYAG結晶にNdイオンなどがドープされたロッドやディスクにLD(ダイオードレーザー)やランプにより励起して作り出した波長1064nmのレーザー光を発振するレーザーのことです。 | |
| ゆ | 誘導放出 [ゆうどうほうしゅつ] / [ stimulated emission ] |
| 上位の励起準位(Ea)に励起されている原子にEa-Eb相当の光が当たりその光子に誘導される様に光を出して下位準位(Eb)に原子が落ちます。この一連を誘導放出と呼びます。 | |
| UV [ゆーぶい] / [ ultraviolet ] | |
| UVとは英語のultravioletの略号で紫外線のことを意味する。紫外線とは名前の通り紫色の外側に有る光のことで人の目には見えない波長380nmより短い光のことを言う。光エネルギーが高くアブレーション加工に用いられる。 | |
| UVレーザー [ゆーぶいれーざー] / [ UV laser ] | |
| UVレーザーとは紫外線(UV)を発振するレーザー発振器のことを指す。UVとは英語のultravioletの略号で紫外線のことを意味する。紫外線とは名前の通り紫色の外側に有る光のことで人の目には見えない波長380nmより短い光のことを言う。光エネルギーが高くアブレーション加工に用いられる。 | |
| よ | 横モード [よこもーど] / [ transverse mode ] |
| 横モードとは共振器の光軸に垂直な方向のモードのことです。レーザー発振器から出射された光線の断面を見ると1個で点対称(円や楕円など)となる横シングルモードや複数の円や楕円が現れる横マルチモードがあります。 | |
| 4ω [よんおめが] / [ 4 omega ] | |
| 4ωとはレーザー基本波の4倍の周波数(波長の4分の1)の総称です。YAGレーザーの場合は1064nmの1/4で266nmとなります。 | |
| 1/4波長板 [よんぶんのいちはちょうばん] / [ quarter wave plate ] | |
| 1/4波長板とは直線偏光を円偏光に、円偏光を直線偏光に変換する位相板を1/4波長板と言います。 |
| ら | ランダム偏光 [らんだむへんこう] / [ random polarization ] |
|---|---|
| ランダム偏光とは太陽光や電灯光などの一つの連続波が他とは関係なく発生しているバラバラな偏光を言います。 | |
| ランプ励起 [らんぷれいき] / [ flash lamp pumping ] | |
| ランプ励起とは固体レーザー発振器でレーザー媒質となるYAG等の結晶を励起させるため光源にフラッシュランプなどのランプを使用した励起のことです。 | |
| り | リレーレンズ [りれーれんず] / [ relay lens ] |
| リレーレンズとは、一つのレンズ系 によって作られた実像を、再び実像として結像させるレンズ系のことです。 | |
| れ | 励起 [れいき] / [ pumping ] |
| レーザーでの励起とはレーザー媒質を励起することを意味し、レーザー媒質内の原子や分子が外からエネルギーを与えられ、もとのエネルギーの低い安定した状態からエネルギーの高い状態へと移ることです。 | |
| 励起源 [れいきげん] / [ pumping source ] | |
| 励起源とはレーザー媒質を励起(ポンピング)するためエネルギーを与えるための仕組みの事です。 | |
| レーザー [れーざー] / [ laser ] | |
| LASERとはLight Amplification by Stimulated Emission of Radiationの略で、直訳すると励起誘導放射による光増幅となります。 | |
| レーザーアニール [れーざーあにーる] / [ laser annealing ] | |
| レーザーアニールとはレーザーによりアニーリングすることで通常はTFT液晶のa-Siをp-Siにする工程で使用されている技術です。 | |
| レーザーアブレーション [れーざーあぶれーしょん] / [ laser ablation ] | |
| レーザーアブレーションとはレーザーの光エネルギーにより焼爆させ加工する加工法のことです。厳密に言うと超短時間とはいえ熱が加わわるので完全な非熱加工ではない。 | |
| レーザーウェルディング [れーざーうぇるでぃんぐ] / [ laser welding ] | |
| レーザーウェルディングとはレーザー溶接のことでレーザーを使って金属材料同士を融かし溶接することです。 | |
| レーザー加工 [れーざーかこう] / [ laser processing ] | |
| レーザー加工とはレーザー発振器やレーザーシステムを使用して行う加工の全般をさす。主なレーザー加工としてはレーザー微細加工、レーザー溶接、レーザーマーキング、レーザー切断等があげられる。この他にも半導体用としてはレーザーステッパーを始めレーザーアニール、レーザーリペア、レーザーダイシング等がある。 | |
| レーザーグラス [れーざーぐらす] / [ laser glasses ] | |
| レーザーグラスとはレーザー機器を扱う際に目を保護するためにかける安全保護サングラスのことでレーザーの波長により種類が分かれている。 | |
| レーザーグレード [れーざーぐれーど] / [ laser grade ] | |
| レーザーグレードとはレーザー光学用に専用製作される光学素子や部品の総称のことです。 | |
| レーザー光 [れーざーこう] / [ laser light ] | |
| レーザー光とはレーザー発振器から出る光のことを言います。 | |
| レーザー光学系 [れーざーこうがくけい] / [ laser optics ] | |
| レーザー光学系とはレーザーに使用するための光学系を指し、レンズやミラーはもちろんのこと回折光学素子やスキャナー、エキスパンダーなど特殊なものも使用される。一般の光学系に比べて材料やコーティングに注意する必要があり専用の技術を用いる。 | |
| レーザーゴーグル [れーざーごーぐる] / [ laser goggle ] | |
| レーザーゴーグルとはレーザー機器を扱う際に目を保護するためにかける安全用のゴーグルのことでレーザーの波長により種類が分かれている。 | |
| レーザーコーティング [れーざーこーてぃんぐ] / [ laser coating ] | |
| レーザーコーティングとはレーザー用に耐久性のある材料を使用して施されたコーティングの総称です。 | |
| レーザースクライビング [れーざーすくらいびんぐ] / [ laser scribing ] | |
| レーザースクライビングとはレーザーにより基盤に切れ込みを入れた後、応力をかけて切り込み面で割断する加工のことで、半導体産業において難加工材などは効率や次行程によりこの手法を使用する。 | |
| レーザー切断 [れーざーせつだん] / [ laser cutting ] | |
| レーザー切断とはレーザー光により材料を切断する加工法の総称です。溶接とは異なり様々な材質の切断をレーザーにより行うことが出来る。 | |
| レーザー測定器 [れーざーそくていき] / [ laser measurement ] | |
| レーザー測定器とはレーザーの性能や状態を測定するための機器で出力を測るためのパワーメーター、パルスエネルギーを測るためのエネルギーメーター、ビームの形状を測るためのビームプロファイラーなどがある。 | |
| レーザーソルダリング [れーざーそるだりんぐ] / [ laser soldering ] | |
| レーザーソルダリングとはレーザーによるハンダ付けのことです。レーザーの熱を利用してハンダを溶かすため微少エリアのハンダ付けに適しています。 | |
| レーザーダイオード [れーざーだいおうど] / [ laser diode ] | |
| 半導体材料で作るレーザーを総称してレーザーダイオードと呼びます。化合物半導体を使ったレーザーが多く、PN接合の手法を利用してレーザー光を作り出します。 | |
| レーザーダイシング [れーざーだいしんぐ] / [ laser dicing ] | |
| レーザーダイシングとはレーザーにより材料を切断する加工の総称ですが主に半導体材料の切断の時に用いる用語で鋼鈑などの切断の時にはレーザー切断と言います。 | |
| レーザー耐力 [れーざーたいりょく] / [ laser damage level ] | |
| レーザー耐力とはレーザーで使用する光学部品に使用される言葉でレーザーパワーにどれだけ耐えることが出来るかを意味します。 | |
| レーザー直接融着 [れーざーちょくせつゆうちゃく] / [ laser direct welding ] | |
| レーザー直接融着とはハンダを使わずにレーザーにより直接金属を融かし接合する技術のことを言う。 | |
| レーザートリマー [れーざーとりまー] / [ laser trimmer ] | |
| レーザートリマーとはレーザーにより厚膜抵抗、コンデンサ等のトリミングを行う加工に使用されるレーザー装置の総称で、ここでのトリミングとは不要なところを除去する事によって製品を完成させるという意味です。 | |
| レーザートリミング [れーざーとりみんぐ] / [ laser trimming ] | |
| レーザートリミングとはレーザーにより厚膜抵抗、コンデンサ等の不要なところを除去する事によって製品を完成させることで、抵抗であれば抵抗材料を削り取ることで規定の抵抗値にする行程のことを言います。 | |
| レーザー媒質 [れーざーばいしつ] / [ laser medium ] | |
| レーザー媒質とはレーザー発振の元となる物質のことで気体、固体があります。 | |
| レーザー発振器 [れーざーはっしんき] / [ laser system ] | |
| レーザー発振器とは励起誘導放出によって光を増幅・発振する装置のこと。単色光で位相のそろった指向性のある平行光線が得られる。 | |
| レーザー微細加工 [れーざーびさいかこう] / [ laser micro processing ] | |
| レーザー微細加工とはレーザー光により材料に対して微細な加工(0.1mm以下が目安とされる)を行うことです。ドリルではあけられない小さな穴もレーザーを使えば加工することが出来る。穴あけの他にも切断やマーキング、溶接などもある。 | |
| レーザーブレージング [れーざーぶれーじんぐ] / [ laser brazing ] | |
| レーザーブレージングとはレーザーにより母材となる金属よりも融点の低い金属材料( ろう材)を使用し、これを加熱溶融させ、接合部の隙間に溶かし込んで接合する方法です。レーザーによるハンダ付けをレーザーソルダリングと言うためそれとを使い分けする際に使用したりします。 | |
| レーザー保護めがね [れーざーほごめがね] / [ laser glasses ] | |
| レーザー保護めがねとはレーザー機器を扱う際に目を保護するためにかける安全用の保護めがねのことでレーザーの波長により種類が分かれている。 | |
| レーザーマーカー [れーざーまーかー] / [ laser marker ] | |
| レーザーマーカーとはレーザーによりマーキングするレーザー加工装置の総称で現在では様々なモノにレーザーマーキングが取り入れられています。 | |
| レーザーマーキング [れーざーまーきんぐ] / [ laser marking ] | |
| レーザーマーキングとはレーザーによりマーキングする加工の総称で現在では様々なモノにレーザーマーキングが取り入れられています。 | |
| レーザー溶接 [れーざーようせつ] / [ laser welding ] | |
| レーザー溶接とはレーザー光により金属を融かし融合して接合する技術です。2つ以上の部材を分子原子レベルで融合一体化することであり接着とは異なる。 一般には金属を対象にした接合方法である。 | |
| 連続波 [れんぞくは] / [ continuous wave ] | |
| 連続波とはレーザー光をとぎれなく連続して発振することを意味し、パルス波でないことです。 | |
| ろ | ロータリーアッテネーター [ろーたりーあってねーたー] / [ rotary attenuator ] |
| ロータリーアッテネーターとはレーザー光の光量を減衰させるための光学モジュールのことで、回転型の偏光素子を使用するタイプのモノを言います。 | |
| わ | YVO4 [わいぶいおーふぉー] / [ YVO4 ] |
| YVO4とはイットリウム・バナデート(YVO4)の略で固体レーザー発振器のレーザー媒質の一種です。 | |
| YVO4レーザー [わいぶいおーふぉーれーざー] / [ YVO4 laser ] | |
| YVO4レーザーのYVO4とはイットリウム・バナデートの略でYVO4レーザーとはそれらYVO4結晶にNdイオンなどがドープされたロッドやディスクにLD(ダイオードレーザー)やランプにより励起して作り出した波長1064ミクロンのレーザー光を発振するレーザーのことです。 |