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[あ]いうえお [か]きくけこ [さ]しすせそ [た]ちつてと [な]にぬねの [は]ひふへほ [ま]みむめも
[や]ゆよ [ら]りるれろ [わ]をん [A-Z]
[0-9]

1


1/e2 { いーじじょうぶんのいち } ( 1/e2 )
1/e2とはビームの断面で、単位面積あたりのパワーが単位面積あたりの最大パワーの1/e となる対称の2点間の距離のことを言います。

1053nm (1.053μm) { 1053なのめーとる } ( 1053nm (1.053μm) )
YLF結晶が媒体の基本波レーザーの発振波長。

10640nm (10.64μm) { 10640なのめーとる } ( 10640nm (10.64μm) )
CO2ガスが媒体のガスレーザーの発振波長。

1064nm (1.064μm) { 1064なのめーとる } ( 1064nm (1.064μm) )
YAG及びYVO4結晶が媒体の基本波レーザーの発振波長。

157nm { 157なのめーとる } ( 157nm )
F2ガスのみによるエキシマレーザーの発振波長。

193nm { 193なのめーとる } ( 193nm )
F2ガスとArガスの組合せによるエキシマレーザーの発振波長。

2


2 omega { におめが } ( 2ω )
2ωとはレーザー基本波の2倍の周波数(波長の2分の1)の総称です。YAGレーザーの場合は1064nmの1/2で532nmとなります。

248nm { 248なのめーとる } ( 248nm )
F2ガスとKrガスの組合せによるエキシマレーザーの発振波長。

263nm { 263なのめーとる } ( 263nm )
YLF結晶が媒体の第4高調波レーザーの発振波長。

266nm { 266なのめーとる } ( 266nm )
YAG及びYVO4結晶が媒体の第4高調波レーザーの発振波長。

3


3 omega { さんおめが } ( 3ω )
3ωとはレーザー基本波の3倍の周波数(波長の3分の1)の総称です。YAGレーザーの場合は1064nmの1/3で355nmとなります。

308nm { 308なのめーとる } ( 308nm )
HClガスとXeガスの組合せによるエキシマレーザーの発振波長。

351nm { 351なのめーとる } ( 351nm )
YLF結晶が媒体の第3高調波レーザーの発振波長。

355nm { 355なのめーとる } ( 355nm )
YAG及びYVO4結晶が媒体の第3高調波レーザーの発振波長。

4


4 omega { よんおめが } ( 4ω )
4ωとはレーザー基本波の4倍の周波数(波長の4分の1)の総称です。YAGレーザーの場合は1064nmの1/4で266nmとなります。

5


527nm { 527なのめーとる } ( 527nm )
YLF結晶が媒体の第2高調波レーザーの発振波長。

532nm { 532なのめーとる } ( 532nm )
YAG及びYVO4結晶が媒体の第2高調波レーザーの発振波長。

A


A/O Q switch { えーおーきゅーすいっち } ( A/O Qスイッチ )
A/O Qスイッチとは超音波をかけると屈折率が変化する素子を使ったQスイッチのことです。

a


alignment beam { がいどこう } ( ガイド光 )
ガイド光とはレーザー光をアライメントするための補助光のことでUVレーザーやIRレーザーでは目に見えないため別に可視光レーザーの光を使用します。

amplifier { あんぷ } ( アンプ )
レーザーで使用されるアンプとはオシレーターから発振されたレーザー光のパワーを上げるために使用するレーザーに似た装置です。

amplifier { ぞうふくき } ( 増幅器 )
レーザーで使用される増幅器とはオシレーターから発振されたレーザー光のパワーを上げるために使用するレーザーに似た装置です。

aperture { あぱーちゃー } ( アパーチャー )
アパーチャーとは輪郭補正用の光学系パーツで通過する光の面積を制限するものです。 通常は板状の薄い金属板に丸や四角の穴の空いた形状をしています。

A


AR coating { えーあーるこーてぃんぐ } ( ARコーティング )
ARコーティングとはAnti Reflection コーティングの略で反射防止膜のことです。レンズなどの光学素子にARコートを施すとガラス表面で起こる反射を防ぐことが出来、結果として透過効率を上げることが出来ます。

ArF { えーあーるえふ } ( ArF )
ArFとはエキシマレーザーで使用されるガスでArFガスを使用すると193nmの真空紫外線を発振します。
エキシマレーザー一覧

a


attenuator { あってねーたー } ( アッテネーター )
アッテネーターとはレーザー光の光量を減衰させるための光学モジュールのことで、可変減衰できるモノが主流です。

b


bandgap { ばんどぎゃっぷ } ( バンドギャップ )
バンドギャップとは伝導帯と価電子帯のエネルギー差のことです。バンドギャップ が大きい物質は絶縁体、バンドギャップが小さい物質は半導体、バンドギャップが無い 物質は導体となる。

bandpass filter { ばんどぱすふぃるたー } ( バンドパスフィルター )
バンドパスフィルターとは有る特定の波長域のみを透過するフィルターのことです。

bandpass mirror { ばんどぱすみらー } ( バンドパスミラー )
バンドパスミラーとは有る特定の波長域のみを反射するミラーのことです。

B


BBO { びーびーおー } ( BBO )
BBOとは非線形光学結晶(β-BaB2O4)のことで主に基本波を2倍波、3倍波、4倍波に変換するために使用されます。

b


beam expander { びーむえきすぱんだー } ( ビームエキスパンダー )
ビームエキスパンダーとはレーザー光のビーム径を広げるための光学モジュールのことです。

beam homogenizer { びーむほもじないざー } ( ビームホモジナイザー )
ビームホモジナイザーとはレーザー光のプロファイルを照射面において均一化するための光学モジュールのことです。

beam profile { びーむぷろふぁいる } ( ビームプロファイル )
ビームプロファイルとはレーザー光を断面で見たときの強度分布をグラフ化したものを指します。

beam profiler { びーむぷろふぁいらー } ( ビームプロファイラー )
ビームプロファイラーとはレーザー光の強度分布ですビームプロファイルを測定するための測定器のことをいいます。
ビームプロファイラー一覧

beem diameter { びーむけい } ( ビーム径 )
レーザーでのビーム径はレーザー光の直径のことを意味しますが、通常1/e2の値を指します。

B


BK7 { びーけーせぶん } ( BK7 )
BK7とは光学ガラスでもっとも一般的な材料で可視光域で使用される光学材料です。

Bundle Fiber { ばんどるふぁいばー } ( バンドルファイバー )
バンドルファイバーとはいくつもの光ファイバー素線を束ねて一つの大きなファイバーにしたファイバーのことです。バンドルファイバーは受光面積、 照射面積を自由に設計し、光を伝送することができます。

C


CaF2 { しーえーえふつー } ( CaF2 )
CaF2とは紫外線をよく透過する光学結晶のことでレーザー用のレンズに使用される材料です。

c


cavity { きゃびてぃー } ( キャビティー )
レーザーでのキャビティーとは共振器のことをいい、共振器とはレーザー光が作られるために定常波を作り出す空間(全反射ミラーと出力ミラーの間)を言いますが、装置そのものを呼ぶ場合もあります。

chiller { ちらー } ( チラー )
チラーとは水を一定の温度に冷やすための装置のことです。レーザーや装置を安定化させるためにチラーで冷やした水(冷却水)を使用します。
チラー一覧

circular polarization { えんへんこう } ( 円偏光 )
円偏光とは光の進行方向に対し偏光面を示すベクトルの向きが円を描きながら回転している偏光のことを言います。

C


CLBO { しーえるびーおー } ( CLBO )
CLBOとは非線形光学結晶(CsLi6O10)のことで主に4倍波に変換するために使用されます。

CO2 laser { しーおーつーれーざー } ( CO2レーザー )
CO2レーザーとは炭酸ガスレーザーのことでガスレーザーの一種です。赤外線(IR)を発振しメジャーな波長としては10.6ミクロンを発振します。出力が大きなレーザーがあり、溶接や鋼鈑の切断に利用されています。
CO2レーザー一覧

CO2 laser { たんんさんがすれーざー } ( 炭酸ガスレーザー )
炭酸ガスレーザーとはガスレーザーの一種で出力が大きなレーザーがあり、溶接や鋼鈑の切断に利用されています。赤外線(IR)を発振しメジャーな波長としては10.6ミクロンを発振します。

c


compressor { こんぷれっさー } ( コンプレッサー )
レーザーでのコンプレッサーとはパルスコンプレッサーのことを意味し、パルス幅を短くさせるための部分のことを言います。

concierge { こんしぇるじぇ } ( コンシェルジェ )
コンシェルジェとはフランス語でコンシェルジュと読み、ホテルで、ゲスト(宿泊客)の求めに応じて、街の地理案内や交通機関・観劇の切符やレストランの手配などをする係のこと。ここレーザー・コンシェルジェでは道先案内人という意味で使用しております。

continuous wave { れんぞくは } ( 連続波 )
連続波とはレーザー光をとぎれなく連続して発振することを意味し、パルス波でないことです。

continuous wave { しーだぶりゅー } ( CW )
CWとは連続波のことでレーザー光をとぎれなく連続して発振することを意味し、パルス波でないことです。

copper vapor laser { どうじょうきれーざー } ( 銅蒸気レーザー )
銅蒸気レーザーとはセラミックス管に10kHオーダーの高繰り返しの放電を加え内部の銅を蒸気化して電子励起することで発振するレーザー発振器で10nsec前後、十数Wの可視光パルス出力が得られます。その大きさ故産業よりも研究機関で使用されています。

cylindrical lens { しりんどりかるれんず } ( シリンドリカルレンズ )
シリンドリカルレンズとは円筒状のレンズのことで1方向にのみ曲率のあるレンズです。代表的な形状としてはカマボコ型のものがあります。

d


debris { でぶり } ( デブリ )
デブリとはアブレーション加工の際に材料から噴出する加工クズのこと。

deep ultraviolet { しんくうしがい } ( 真空紫外 )
真空紫外とは名前の通り真空域でしか伝播しにくい光のことを言い、200nmより短い光のことを言います。エキシマレーザーのArF(193nm)やF2(157nm)が真空紫外線光にあたります。

deep uv { でぃーぷうゆーぶい } ( ディープUV )
ディープUVとは真空紫外のことで名前の通り真空域でしか伝播しにくい光のことを言い、200nmより短い光のことを言います。エキシマレーザーのArF(193nm)やF2(157nm)が真空紫外線光にあたります。

dichroic mirror { だいくろいっくみらー } ( ダイクロイックミラー )
ダイクロイックミラーとは誘電体多層膜により、2つ以上の波長域の光を分離する フィルターで、特定の波長のみ反射し、その他の波長は透過させるミラーのことです。

diffractive optics { かいせつこうがくそし } ( 回折光学素子 )
回折光学素子とはレーザー光を回折させることにより集光させたりビームプロファイルをシェーピングさせたりする光学素子のことです。外観は板状の透明材料に階段状のステップエッジが刻まれています。

diode laser { だいおーどれーざー } ( ダイオードレーザー )
半導体材料で作るレーザーを総称してダイオードレーザーと呼びます。英語ではレーザーダイオードですが日本ではダイオードレーザーと呼ぶことが多いようです。化合物半導体を使ったレーザーが多く、PN接合の手法を利用してレーザー光を作り出します。

disc laser { でぃすくれーざー } ( ディスクレーザー )
ディスクレーザーとは固体レーザーの1種で励起用固体素子の形状が薄いディスク形状をしたものを使用しているレーザー発振器です。Ndイオンの代わりにYAGの結晶とマッチングの良いYbイオンを高い濃度で混入しLD(ダイオードレーザー)で高密度な励起を行うことで、薄いディスク状の媒体から波長約1ミクロンのレーザー光を大きな出力が得られます。
ディスクレーザー発振器一覧

divergence { ひろがりかく } ( 拡がり角 )
レーザーでの拡がり角とはレーザー発振器から発せられたレーザー光が広がる角度を示します。半角で表す場合と全角で表す場合があります。

divergence { だいばーじぇんす } ( ダイバージェンス )
ダイバージェンスとはレーザー発振器から発せられたレーザー光が広がる角度を示します。半角で表す場合と全角で表す場合があります。

doublet lens { だぶれっとれんず } ( ダブレットレンズ )
ダブレットレンズとは2枚で構成されたフォーカスレンズの総称です。単レンズよりも収差補正が出来るため加工精度が上がります。

D


DPSS { でぃーぴーえすえす } ( DPSS )
DPSSとはDiode Pumping Solid State の略でLD励起固体レーザーのことです。

d


duv { でぃーゆーぶい } ( DUV )
DUVとは英語のdeep ultravioletの略語で真空紫外のことを指し、名前の通り真空域でしか伝播しにくい光のことを言い、200nmより短い光のことを言います。エキシマレーザーのArF(193nm)やF2(157nm)が真空紫外線光にあたります。

E


E/O Q switch { いーおーきゅーすいっち } ( E/O Qスイッチ )
E/O Qスイッチとは電機光学効果結晶という電圧を加えると屈折率が変化する素子を使ったQスイッチのことです。

e


elliptic polarization { だえんへんこう } ( 楕円偏光 )
楕円偏光とは光の進行方向に対し偏光面を示すベクトルの向きが楕円を描きながら回転している偏光のことを言います。

end pumping { えんどぽんぷ } ( エンドポンプ )
エンドポンプとは励起方法(ポンピング)の一種でレーザー媒質のロッドやディスクなどの後方から励起する構造です。後方とはレーザー光軸と同軸上の垂直方向になります。

energy output { しゅつりょく } ( 出力 )
レーザーでの出力とは時間あたりのエネルギー量を指すことでW(ワット)で表示します。

excimer laser { えきしまれーざー } ( エキシマレーザー )
エキシマレーザーとはガスレーザーの一種で紫外線(UV)を発振するレーザー発振器です。ハロゲンガスとレアガスの組み合わせガスを使用し高電圧をかけ発振します。
エキシマレーザー一覧

external trigger { えくすたーなるとりがー } ( エクスターナルトリガー )
エクスターナルトリガーとは外部からトリガー信号を送ることをいいます。レーザーの場合は外部からのTTL信号を受けてレーザーが発振する仕組みのことです。

external trigger { がいぶとりがー } ( 外部トリガー )
外部トリガーとは外部からトリガーとなるTTL信号等を送ることをいいます。レーザーの場合は外部からのTTL信号を受けてレーザーが発振する仕組みのことです。

extra cavity { えくすとらきゃびてぃー } ( エクストラキャビティー )
エクストラキャビティーとはレーザー共振器(キャビティー)外に高調波結晶を配置した構造のことを言います。

F


F-theta lens { えふしーたーれんず } ( Fθレンズ )
Fθレンズとはガルバノスキャナーやポリゴンミラーと組み合わせて使用される特殊なレンズのことで、レーザーの走査速度を一定に補正するレンズです。

F2 { えふつー } ( F2 )
F2とはエキシマレーザーで使用されるガスでF2ガスを使用すると157nmの真空紫外線を発振します。
エキシマレーザー一覧

f


feedback light { もどりこう } ( 戻り光 )
戻り光とはレーザー発振器から出たレーザー光がウインドやワークに当たってレーザー発振器へ帰ってくる光のことです。

femto second { ふぇむとびょう } ( フェムト秒 )
フェムト秒とは国際単位系(SI)で、単位の上に付けて1000兆分の1、すなわち1フェムト秒とは1/1000兆秒のことです。

femto second { ふぇむとせかんど } ( フェムトセカンド )
フェムトセカンドとは国際単位系(SI)で、単位の上に付けて1000兆分の1、すなわち1フェムトセカンドは1/1000兆秒のことです。

femto second laser { ふぇむとびょうれーざー } ( フェムト秒レーザー )
フェムト秒レーザーとは短パルスレーザーの1種でパルス幅がフェムト秒領域にあるレーザー発振器のことです。パルス幅が短いと熱影響が伝達する前に発振が終わるため熱影響がほとんど無い加工が可能になります。またパルス幅が短いのでピークパワーが大きく難加工材への加工も可能になります。
フェムト秒レーザー発振機一覧

fiber laser { ふぁいばーれーざー } ( ファイバーレーザー )
ファイバーレーザーとは共振器部分にファイバーを用いたレーザーの総称で、YbイオンやErイオンをドープしたシングルモードファイバのクラッドを2重構造にし、内側のクラッドにLDの励起光を流し込むようにして励起することで驚異的な効率で高品質なレーザー出力が得られます。発振波長はYbの場合、1ミクロンから1.1ミクロン、Erの場合1.5ミクロン領域です。Qスイッチやモードロックで短い時間幅のパルスを出力できるものもあります。
ファイバーレーザー発振器一覧

flash lamp pumping { らんぷれいき } ( ランプ励起 )
ランプ励起とは固体レーザー発振器でレーザー媒質となるYAG等の結晶を励起させるため光源にフラッシュランプなどのランプを使用した励起のことです。
固体ランプ励起レーザー発振機(UV)一覧
固体ランプ励起レーザー発振機(VIS)一覧
固体ランプ励起レーザー発振機(IR)一覧

fluence { ふるえんす } ( フルエンス )
レーザーでのフルエンスとは単位面積あたりのエネルギー量を指し、J/cm2またはW/cm2で表します。

fly-eye lens { ふらいあいれんず } ( フライアイレンズ )
フライアイレンズとは単レンズを平面上に並べて組み合わせた特殊なレンズのことです。

fly-eye lens { はえのめれんず } ( ハエの目レンズ )
ハエの目レンズとは単レンズを平面上に並べて組み合わせた特殊なレンズのことです。

focusing lens { しゅうこうれんず } ( 集光レンズ )
集光レンズとはレーザー光をワーク面で集光させて焦点を結ばせる光学モジュールのことで、単レンズや組み合わせレンズがあります。

focusing lens { ふぉーかすれんず } ( フォーカスレンズ )
フォーカスレンズとはレンズとはレーザー光をワーク面で集光させて焦点を結ばせる光学モジュールのことで、単レンズや組み合わせレンズがあります。

fourth harmonic generation { だいよんこうちょうは } ( 第4高調波 )
第4高調波とはレーザー基本波の4倍の周波数(波長の4分の1)の総称です。YAGレーザーの場合は1064nmの1/4で266nmとなります。

fourth harmonic generation { えふえいちじー } ( FHG )
FHGとは Fourth Harmonic Generation の略で、レーザー基本波の4倍の周波数(波長の4分の1)の総称です。YAGレーザーの場合は1064nmの1/4で266nmとなります。

free electron laser { じゆうでんしれーざー } ( 自由電子レーザー )
自由電子レーザーとは真空中の高速電子を光速近くまで加速し、その電子ビームを曲げるとビームエネルギーの一部が光になるシンクロトロン放射の手法で作られたレーザーのことを言います。

fs { えふえす } ( fs )
fsとはフェムト秒のことで国際単位系(SI)で、単位の上に付けて1000兆分の1、すなわち1fsは1/1000兆秒のことです。

fsec { ふぇむとせっく } ( fsec )
fsecとはフェムト秒とのことで国際単位系(SI)で、単位の上に付けて1000兆分の1、すなわち1fsecは1/1000兆秒のことです。

full angle { ぜんかく } ( 全角 )
レーザーでの全角とはレーザーの拡がり角を示すときに使用する用語でレーザー発振器から発せられたレーザービームの広がる角度全体を指します。

full angle { ふるあんぐる } ( フルアングル )
フルアングルとはレーザーの拡がり角を示すときに使用する用語でレーザー発振器から発せられたレーザービームの広がる角度全体を指します。

fundamental { ふぁんだめんたる } ( ファンダメンタル )
ファンダメンタルとは基本波のことで高調波結晶を用いないで発振させた場合のレーザー光の総称を言います。YAGであれば1064nmの波長になります。

fundamental wave { きほんは } ( 基本波 )
基本波とは高調波結晶を用いないで発振させた場合のレーザー光の総称を言います。YAGであれば1064nmの波長になります。

g


galvanometer mirror { がるばのみらー } ( ガルバノミラー )
ガルバノミラーとはガルバノスキャナーと呼ばれる光学モジュールで使用されるミラーのことです。高速で稼動させるため軽さも重要です。
ガルバノミラー一覧

galvanometer scanner { がるばのすきゃなー } ( ガルバノスキャナー )
ガルバノスキャナーとはレーザー光を走査させる為のサーボモーターのことを言いますが、モーターだけでなくドライバーを含めたモジュール全体のことをいうこともあります。

gas laser { がすれーざー } ( ガスレーザー )
ガスレーザーとは気体放電を利用してレーザー光を作り出すレーザー発振器のことを呼び、主な加工用レーザーには炭酸ガスレーザーとエキシマレーザーがあります。
エキシマレーザー一覧

giant pulse { じゃいあんとぱるす } ( ジャイアントパルス )
ジャイアントパルスとはQスイッチにより作られるエネルギーの高いパルスの総称のことです。

green laser { ぐりーんれーざー } ( グリーンレーザー )
グリーンレーザーとは波長532nm付近の緑色の光を発振するレーザー発振器の総称です。

h


half angle { はんかく } ( 半角 )
レーザーでの半角とはレーザーの拡がり角を示すときに使用する用語でレーザー発振器から発せられたレーザービームの広がる角度を中心線から示す角度のことを言います。

half angle { はーふあんぐる } ( ハーフアングル )
フルアングルとはレーザーの拡がり角を示すときに使用する用語でレーザー発振器から発せられたレーザービームの広がる角度を中心線から示す角度のことを言います。

half wave plate { にぶんのいちはちょうばん } ( 1/2波長板 )
1/2波長板とは直線偏光で偏光方向を90度回転させる位相板を1/2波長板と言います。

harmonic generation { こうちょうは } ( 高調波 )
高調波とは基本波に対し使用する言葉で、ある非線形結晶にレーザー光を透過させると周波数の2倍や3倍(波長の2分の1や3分の1)になりますが、これら周波数が倍増した波を高調波と言います。

hertz { へるつ } ( Hz )
Hzとは繰り返し周波数で使用する単位でパルスレーザー発振器において1秒間にレーザー光の発振する間隔を示すものです。

high reflective mirror { ぜんはんしゃみらー } ( 全反射ミラー )
ここでの全反射ミラーとは共振器ミラーのことで、名前の通り全部の光を反射させるためのミラーです。波長や使用によりますが100%の光を反射させます。

H


Ho:YAG { えっちおーやぐ } ( Ho:YAG )
Ho:YAGとはYAGロッドにホルミウムHo3+をドープした固体レーザー媒質のことを言いますが、レーザー発振器そのものを指す場合もあります。

i


infrared { せきがいせん } ( 赤外線 )
赤外線とは波長780nmより長い光のことを言います。熱線とも呼ばれるように熱作用の大きい光です。

infrared laser { せきがいせんれーざー } ( 赤外線レーザー )
赤外線レーザーとは赤外線を発振するレーザー発振器のことです。赤外線とは波長780nmより長い光のことを言います。熱線とも呼ばれるように熱作用の大きい光です。CO2レーザーやYAGレーザーがあり鋼鈑や金属の溶接や切断に利用されています。
赤外線レーザー発振器一覧]<br>
赤外線レーザーマーカー一覧

inner marking { いんなーまーきんぐ } ( インナーマーキング )
インナーマーキングとはガラスなどの透明体の内側にマーキングする技術です。材料を透過するレーザー光を使用することにより加工が出来ます。

internal trigger { いんたーなるとりがー } ( インターナルトリガー )
インターナルトリガーとは装置内部でトリガー信号を送ることをいいます。レーザーの場合は内部からのTTL信号によりレーザーが発振する仕組みのことです。

internal trigger { ないぶとりがー } ( 内部トリガー )
内部トリガーとは装置内部でトリガー信号を送ることをいいます。レーザーの場合は内部からのTTL信号によりレーザーが発振する仕組みのことです。

intra cavity { いんとらきゃびてぃー } ( イントラキャビティー )
イントラキャビティーとはレーザー共振器(キャビティー)内に高調波結晶を配置した構造のことを言います。

ir { あいあーる } ( IR )
IRとは英語のinfraredの略号で赤外線を意味します。赤外線とは名前の通り赤色の外にある光で人の目には見えない波長780nmより長い光のことを言います。熱線とも呼ばれるように熱作用の大きい光です。

ir laser { あいあーるれーざー } ( IRレーザー )
IRレーザーとはinfrared laserの事を指し赤外線を発振するレーザー発振器を意味します。赤外線とは波長780nmより長い光のことを言います。熱線とも呼ばれるように熱作用の大きい光です。CO2レーザーやYAGレーザーがあり鋼鈑や金属の溶接や切断に利用されています。
IR(赤外線)レーザー発振器一覧
IR(赤外線)レーザーマーカー一覧

K


KCl { けーしーえる } ( KCl )
KClとは遠赤外線を透過する光学結晶のことでCO2レーザーのレンズに使用されています。

KrF { けーあーるえふ } ( KrF )
KrFとはエキシマレーザーで使用されるガスでKrFガスを使用すると248nmの真空紫外線を発振します。
エキシマレーザー一覧

KTP { けーてぃーぴー } ( KTP )
KPTとは非線形光学結晶(KTiOPO4)のことで主に基本波を2倍波、3倍波、4倍波に変換するために使用されます。

l


laser { れーざー } ( レーザー )
LASERとはLight Amplification by Stimulated Emission of Radiationの略で、直訳すると励起誘導放射による光増幅となります。通常はレーザー発振器のことを指しますがレーザー光のことを指す場合もあります。

laser ablation { れーざーあぶれーしょん } ( レーザーアブレーション )
レーザーアブレーションとはレーザーの光エネルギーにより焼爆させ加工する加工法のことです。厳密に言いますと超短時間とはいえ熱が加わわるので完全な非熱加工ではありません。

laser annealing { れーざーあにーる } ( レーザーアニール )
レーザーアニールとはレーザーによりアニーリングすることで通常はTFT液晶のa-Siをp-Siにする工程で使用されている技術です。
レーザーアニーラー一覧

laser brazing { れーざーぶれーじんぐ } ( レーザーブレージング )
レーザーブレージングとはレーザーにより母材となる金属よりも融点の低い金属材料( ろう材)を使用し、これを加熱溶融させ、接合部の隙間に溶かし込んで接合する方法です。レーザーによるハンダ付けをレーザーソルダリングと言いますためそれとを使い分けする際に使用したりします。

laser coating { れーざーこーてぃんぐ } ( レーザーコーティング )
レーザーコーティングとはレーザー用に耐久性のある材料を使用して施されたコーティングの総称です。
コーティング 一覧

laser cutting { れーざーせつだん } ( レーザー切断 )
レーザー切断とはレーザー光により材料を切断する加工法の総称です。溶接とは異なり様々な材質の切断をレーザーにより行うことが出来る。
レーザー切断加工機 一覧

laser damage level { れーざーたいりょく } ( レーザー耐力 )
レーザー耐力とはレーザーで使用する光学部品に使用される言葉でレーザーパワーにどれだけ耐えることが出来るかを意味します。

laser dicing { れーざーだいしんぐ } ( レーザーダイシング )
レーザーダイシングとはレーザーにより材料を切断する加工の総称ですが主に半導体材料の切断の時に用いる用語で鋼鈑などの切断の時にはレーザー切断と言います。

laser diode { れーざーだいおうど } ( レーザーダイオード )
半導体材料で作るレーザーを総称してレーザーダイオードと呼びます。化合物半導体を使ったレーザーが多く、PN接合の手法を利用してレーザー光を作り出します。

laser direct welding { れーざーちょくせつゆうちゃく } ( レーザー直接融着 )
レーザー直接融着とはハンダを使わずにレーザーにより直接金属を融かし接合する技術のことを言う。

laser glasses { れーざーほごめがね } ( レーザー保護めがね )
レーザー保護めがねとはレーザー機器を扱う際に目を保護するためにかける安全用の保護めがねのことでレーザーの波長により種類が分かれている。
レーザー保護めがね(レーザーゴーグル)一覧

laser glasses { れーざーぐらす } ( レーザーグラス )
レーザーグラスとはレーザー機器を扱う際に目を保護するためにかける安全保護サングラスのことでレーザーの波長により種類が分かれている。

laser goggle { れーざーごーぐる } ( レーザーゴーグル )
レーザーゴーグルとはレーザー機器を扱う際に目を保護するためにかける安全用のゴーグルのことでレーザーの波長により種類が分かれている。
レーザーゴーグル一覧

laser grade { れーざーぐれーど } ( レーザーグレード )
レーザーグレードとはレーザー光学用に専用製作される光学素子や部品の総称のことです。

laser light { れーざーこう } ( レーザー光 )
レーザー光とはレーザー発振器から出る光のことを言います。

laser marker { れーざーまーかー } ( レーザーマーカー )
レーザーマーカーとはレーザーによりマーキングするレーザー加工装置の総称で現在では様々なモノにレーザーマーキングが取り入れられています。
レーザーマーカー一覧

laser marking { れーざーまーきんぐ } ( レーザーマーキング )
レーザーマーキングとはレーザーによりマーキングする加工の総称で現在では様々なモノにレーザーマーキングが取り入れられています。
レーザーマーカー一覧

laser measurement { れーざーそくていき } ( レーザー測定器 )
レーザー測定器とはレーザーの性能や状態を測定するための機器で出力を測るためのパワーメーター、パルスエネルギーを測るためのエネルギーメーター、ビームの形状を測るためのビームプロファイラーなどがある。
レーザー測定器一覧

laser medium { れーざーばいしつ } ( レーザー媒質 )
レーザー媒質とはレーザー発振の元となる物質のことで気体、固体があります。

laser micro processing { れーざーびさいかこう } ( レーザー微細加工 )
レーザー微細加工とはレーザー光により材料に対して微細な加工(0.1mm以下が目安とされる)を行うことです。ドリルではあけられない小さな穴もレーザーを使えば加工することが出来る。穴あけの他にも切断やマーキング、溶接などもある。
微細加工ジョブショップ一覧

laser optics { れーざーこうがくけい } ( レーザー光学系 )
レーザー光学系とはレーザーに使用するための光学系を指し、レンズやミラーはもちろんのこと回折光学素子やスキャナー、エキスパンダーなど特殊なものも使用される。一般の光学系に比べて材料やコーティングに注意する必要があり専用の技術を用いる。
レーザー光学系一覧

laser processing { れーざーかこう } ( レーザー加工 )
レーザー加工とはレーザー発振器やレーザーシステムを使用して行う加工の全般をさす。主なレーザー加工としてはレーザー微細加工、レーザー溶接、レーザーマーキング、レーザー切断等があげられる。この他にも半導体用としてはレーザーステッパーを始めレーザーアニール、レーザーリペア、レーザーダイシング等がある。

laser processing shop { じょぶしょっぷ } ( ジョブショップ )
ジョブショップとは所有しているシステムで試作から生産までのレーザー加工を請け負う会社のことを総称して言います。

laser scribing { れーざーすくらいびんぐ } ( レーザースクライビング )
レーザースクライビングとはレーザーにより基盤に切れ込みを入れた後、応力をかけて切り込み面で割断する加工のことで、半導体産業において難加工材などは効率や次行程によりこの手法を使用します。
レーザースクライバーシステム 一覧

laser soldering { れーざーそるだりんぐ } ( レーザーソルダリング )
レーザーソルダリングとはレーザーによるハンダ付けのことです。レーザーの熱を利用してハンダを溶かすため微少エリアのハンダ付けに適しています。

laser system { れーざーはっしんき } ( レーザー発振器 )
レーザー発振器とは励起誘導放出によって光を増幅・発振する装置のことです。単色光で位相のそろった指向性のある平行光線が得られます。
レーザー発振器一覧

laser trimmer { れーざーとりまー } ( レーザートリマー )
レーザートリマーとはレーザーにより厚膜抵抗、コンデンサ等のトリミングを行う加工に使用されるレーザー装置の総称で、ここでのトリミングとは不要なところを除去する事によって製品を完成させるという意味です。
レーザートリマー一覧

laser trimming { れーざーとりみんぐ } ( レーザートリミング )
レーザートリミングとはレーザーにより厚膜抵抗、コンデンサ等の不要なところを除去する事によって製品を完成させることで、抵抗であれば抵抗材料を削り取ることで規定の抵抗値にする行程のことを言います。

laser welding { れーざーうぇるでぃんぐ } ( レーザーウェルディング )
レーザーウェルディングとはレーザー溶接のことでレーザーを使って金属材料同士を融かし溶接することです。
レーザー溶接・レーザー溶着一覧

laser welding { れーざーようせつ } ( レーザー溶接 )
レーザー溶接とはレーザー光により金属を融かし融合して接合する技術です。2つ以上の部材を分子原子レベルで融合一体化することであり接着とは異なる。 一般には金属を対象にした接合方法である。
レーザー溶接・レーザー溶着 一覧

L


LBO { えるびーおー } ( LBO )
LBOとは非線形光学結晶(LiB3O5)のことで主に基本波を2倍波、3倍波、4倍波に変換するために使用されます。

LD { えるでぃー } ( LD )
半導体レーザーを英語でLaser Diode と呼びそれを略してLDと表します。

LD pumping { えるでぃーれいき } ( LD励起 )
LD励起とは固体レーザー発振器でレーザー媒質となるYAG等の結晶を励起させるため光源にLD(ダイオードレーザー)を使用した励起のことです。
固体LD励起レーザー発振機(UV)一覧
固体LD励起レーザー発振機(VIS)一覧
固体LD励起レーザー発振機(IR)一覧

l


linear polarization { ちょくせんへんこう } ( 直線偏光 )
直線偏光とは偏光面と振動面が同位相で進み一定となっている偏光を言います。

longitudinal mode { たてもーど } ( 縦モード )
縦モードとはレーザー媒質の利得の範囲内で共振器のミラー間距離によっていくつかの周波数のものが同時に発振されていますがこれらを縦モードと言います。

M


M square { えむすくえあー } ( M2 )
M2とはレーザー光の横モード品質のことです。

m


micro { みくろん } ( ミクロン )
ミクロンとは国際単位系(SI)で、メートル法の単位の上に付けて100万分の1、すなわち1ミクロンは1/100万メートルのことです。

micro meter { まいくろめーとる } ( マイクロメートル )
マイクロメートルとは国際単位系(SI)で、メートル法の単位の上に付けて100万分の1、すなわち1マイクロメートルは1/100万メートルのことです。

mode lock laser { もーどろっくれーざー } ( モードロックレーザー )
モードロックレーザーとはNdイオンドープのYAG結晶を媒体としてAOM,や可飽和吸収体を組み合わせ、共振器の縦モードを同期して発振させます。ピコ秒領域のパルス幅で100MHz前後の繰り返しのレーザー光を作り出し、非線形光学結晶でUV域に波長変換も可能です。
モードロックレーザー発振器一覧

monitoring optical system { かんさつこうがくけい } ( 観察光学系 )
観察光学系とはレーザー加工を観察するための光学系で加工部位が小さいほど大きな倍率の観察光学系が必要です。大きく分けて同軸タイプと外部型があります。

M


MOPA { もぱ } ( MOPA )
MOPAとはMaster Oscillator Power Amplifierの略語でレーザー発振器の構造が種光源からのレーザ光をアンプ器でパワー増幅する方式のことです。

m


ms { えむえす } ( ms )
msとはミリ秒のことで国際単位系(SI)で、単位の上に付けて1000分の1、すなわち1msは1/1000秒のことです。

msec { みりせっく } ( msec )
msecとはミリ秒のことで国際単位系(SI)で、単位の上に付けて1000分の1、すなわち1msecは1/1000秒のことです。

multi mode { まるちもーど } ( マルチモード )
マルチモードとは横モードの一つで、レーザー発振器から出射された光線の断面を見ると複数の円や楕円が現れるモードのことです。

multiphoton absorption { たこうしきゅうしゅう } ( 多光子吸収 )
多光子吸収とは物質が複数個の同種、もしくは異種の光子を吸収する現象のことを言います。

N


NA { えぬえー } ( NA )
NAとは開口数のことで対物レンズの性能を示す数値の一つです。NAは、物体から対物レンズに入射する光線の光軸に対する最大角度をθ、物体と対物レンズの間の媒質の屈折率をnとして、NA = n sin θと表される。NAが大きいほど対物レンズの分解能は高くなる。

n


nano meter { なのめーとる } ( ナノメートル )
ナノメートルとは国際単位系(SI)で、メートル法の単位の上に付けて10億分の1、すなわち1ナノメートルは1/10億メートルのことです。

nano second { なのびょう } ( ナノ秒 )
ナノ秒とは国際単位系(SI)で、メートル法の単位の上に付けて10億分の1、すなわち1ナノ秒は1/10億秒のことです。

nano second { なのせかんど } ( ナノセカンド )
ナノセカンドとはナノ秒のことで国際単位系(SI)で、メートル法の単位の上に付けて10億分の1、すなわち1ナノセカンドは1/10億秒のことです。

nano second laser { なのびょうれーざー } ( ナノ秒レーザー )
ナノ秒レーザーとパルス幅がナノ秒の領域にあるレーザー発振器のことです。一般的なレーザー発振器はナノ秒で発振している製品が多い。

N


ND filter { えぬでぃーふぃるたー } ( NDフィルター )
NDフィルターとは光量を減衰させるためのフィルターで目視ではグレー色に見える。フィルターで吸収して減衰させるため高出力レーザーには使用できない。

Nd:YAG { えぬでぃーやぐ } ( Nd:YAG )
Nd:YAGとはYAGロッドにネオジウムNd3+をドープした固体レーザー媒質のことを言いますが、レーザー発振器そのものを指す場合もあります。

n


near infrared { にあーあいあーる } ( NIR )
NIRとは英語のnear infraredの略号で近赤外線を意味します。近赤外線とは波長の長い赤外線を遠赤外線というのに対しての呼称で波長780nmから3μmぐらいの赤外線域の光のことを言います。

near infrared { きんせきがいせん } ( 近赤外線 )
近赤外線とは波長の長い赤外線を遠赤外線というのに対しての呼称で波長780nmから3μmぐらいの赤外線域の光のことを言います。

near infrared laser { にあーあいあーるれーざー } ( NIRレーザー )
NIRレーザーとは英語のnear infrared laserの略号で近赤外線を発振するレーザー発振器のことを言います。近赤外線とは波長の長い赤外線を遠赤外線というのに対しての呼称で波長780nmから3μmぐらいの赤外線域の光のことを言います。

near infrared laser { きんせきがいせんれーざー } ( 近赤外線レーザー )
近赤外線レーザーとは近赤外線を発振するレーザー発振器のことを言います。近赤外線とは波長の長い赤外線を遠赤外線というのに対しての呼称で波長780nmから3μmぐらいの赤外線域の光のことを言います。

nm { なのめーとる } ( nm )
nmとはナノメートルのことで国際単位系(SI)で、メートル法の単位の上に付けて10億分の1、すなわち1nmは1/10億メートルのことです。

nonlinear crystal { ひせんけいけっしょう } ( 非線形結晶 )
非線形結晶とは光放射に対し、強く非線形の誘電的な応答機能を持っている光学結晶のことです。主に基本波を高調波にする際に使用し代表的なものにLBOやBBOなどがあります。
光学結晶一覧

ns { えぬえす } ( ns )
nsとはナノ秒のことで国際単位系(SI)で、メートル法の単位の上に付けて10億分の1、すなわち1nsは1/10億秒のことです。

nsec { なのせっく } ( nsec )
nsecとはナノ秒のことで国際単位系(SI)で、メートル法の単位の上に付けて10億分の1、すなわち1nsecは1/10億秒のことです。

N


Numerical Aperture { かいこうりつ } ( 開口数 )
開口数とは対物レンズの性能を示す数値の一つでNAとも言います。NAは、物体から対物レンズに入射する光線の光軸に対する最大角度をθ、物体と対物レンズの間の媒質の屈折率をnとして、NA = n sin θと表される。NAが大きいほど対物レンズの分解能は高くなる。

o


omega { おめが } ( ω )
ωとは基本波のことで高調波結晶を用いないで発振させた場合のレーザー光の総称を言います。YAGであれば1064nmの波長になります。

optical isolator { ひかりあいそれーたー } ( 光アイソレーター )
光アイソレーターとはレーザーの戻り光を遮断するための光学素子の総称で偏光板や波長板を組み合わせて作られています。

oscillator { おしれーたー } ( オシレーター )
オシレーターとはアンプ装置を取り付けたレーザー発振器の元となるレーザー光源のことまたはその光のことを指します。

output coupler { しゅつりょくみらー } ( 出力ミラー )
出力ミラーとは共振器内部で増幅された光の一部を外部へ出すためのミラーです。

p


peak power { ぴーくぱわー } ( ピークパワー )
レーザーでのピークパワーとはパルスエネルギーをパルス幅で割った値を指し、W(ワット)で表示します。

percussion driling { ぱーかっしょんあなあけ } ( パーカッション穴あけ )
パーカッション穴あけはとはパルスレーザーを使用した穴あけ加工においてレーザーを少なくとも2ショット以上連続して同じところに照射し穴を開ける加工のこと。

phase plate { いそうばん } ( 位相板 )
位相板とは直線偏光を円偏光に円偏光を直線偏光に変換する板状の光学素子のことを言います。また波長板とも言います。

photon energy { ふぉとんえねるぎー } ( フォトンエネルギー )
フォトンエネルギーとは光エネルギーのことで光子の持つエネルギーことです。

photon energy { こうしえねるぎー } ( 光子エネルギー )
光子エネルギーとはフォトンエネルギーのことで光子の持つエネルギーのことです。

pico second { ぴこびょう } ( ピコ秒 )
ピコ秒とは国際単位系(SI)で、単位の上に付けて1兆分の1、すなわち1ピコ秒は1/1兆秒のことです。

pico second { ぴこせかんど } ( ピコセカンド )
ピコセカンドとはピコ秒のことで国際単位系(SI)で、単位の上に付けて1兆分の1、すなわち1ピコセカンドは1/1兆秒のことです。

pico second laser { ぴこびょうれーざー } ( ピコ秒レーザー )
ピコ秒レーザーとは短パルスレーザーの1種でパルス幅がピコ秒領域にあるレーザー発振器のことです。材料に左右されるがパルス幅が10ピコ秒より短いと熱影響が伝達する前に発振が終わるため熱影響がほとんど無い加工が可能になります。またパルス幅が短いのでピークパワーが大きく難加工材への加工も可能になります。
ピコ秒レーザー発振機一覧

P


PLD { ぴーえるでぃー } ( PLD )
PLDとはPulsed Laser Deposition の略でパルスレーザーを使用した成膜方法の一種です。

p


pointing stability { ぽいんてぃんぐすたびりてぃー } ( ポインティングスタビリティー )
ポインティングスタビリティーとはレーザーの安定性を示す一つの項目で、レーザー発振器においてある距離でレーザー光の当たる場所がどれぐらいの距離移動するかを測定した数値です。

polarization { へんこう } ( 偏光 )
偏光とは光波の振動方向の分布が一様でなく、つねに一定の平面に限られている光。振動方向が一直線上に限られる直線偏光、円や楕円を描く円偏光・楕円偏光がある。自然光は反射すると偏光になります。

polarization plate { へんこうばん } ( 偏光板 )
偏光板とはある一定方向の偏光を取り出すときに使用する板状の光学素子のことを言います。

polarization prism { へんこうぷりずむ } ( 偏光プリズム )
偏光プリズムとは偏光方向の違う波を一定方向の偏光方向を取り出す時に使用するプリズムのことを言います。ニコルプリズム、グラントムソンプリズム、ウォルサムプリズム等があります。

polarizer { ぽららいざー } ( ポラライザー )
ポラライザーとはレーザー光のP波とS波とを分離するための光学素子のことです。

power { ぱわー } ( パワー )
レーザーでのパワーとは時間あたりのエネルギー量を指すことでW(ワット)で表示します。

power meter { ぱわーめーたー } ( パワーメーター )
パワーメーターとはレーザー光の出力を測定するための計測器のことを言います。製品によってはパルスレーザーのパルスエネルギーも測定できるモノがあります。
パワーメーター一覧

ps { ぴーえす } ( ps )
psとはピコ秒のことで国際単位系(SI)で、単位の上に付けて1兆分の1、すなわち1psは1/1兆秒のことです。

psec { ぴこせっく } ( psec )
psecとはピコ秒のことで国際単位系(SI)で、単位の上に付けて1兆分の1、すなわち1psecは1/1兆秒のことです。

pulse energy { ぱるすえねるぎー } ( パルスエネルギー )
レーザーでのパルスエネルギーとはパルスレーザー発振器の1パルスあたりのエネルギー量を示し、J(ジュール)で表示します。

pulse repetition rate { くりかえししゅうはすう } ( 繰り返し周波数 )
レーザーでの繰り返し周波数とはパルスレーザー発振器において1秒間にレーザー光の発振する間隔を示すものでHzで表します。

pulse width { ぱるすはば } ( パルス幅 )
パルス幅とはパルスレーザー発振器において1パルスあたりのレーザー光が照射されている時間の事です。

pulse width { ぱるすうぃず } ( パルスウィズ )
パルスウィズとはパルスレーザー発振器において1パルスあたりのレーザー光が照射されている時間の事です。

pulsed oscillation { ぱるすは } ( パルス波 )
パルス波とは一定の周波数でレーザー光を発振することを意味し、連続波でないことです。

pumping { ぽんぴんぐ } ( ポンピング )
レーザーでのポンピングとはレーザー媒質を励起することを意味します。

pumping { れいき } ( 励起 )
レーザーでの励起とはレーザー媒質を励起することを意味し、レーザー媒質内の原子や分子が外からエネルギーを与えられ、もとのエネルギーの低い安定した状態からエネルギーの高い状態へと移ることです。

pumping source { れいきげん } ( 励起源 )
励起源とはレーザー媒質を励起(ポンピング)するためエネルギーを与えるための仕組みの事です。

Q


Q switch { きゅーすいっち } ( Qスイッチ )
Qスイッチとはパルス固体レーザーで使用される部品の一種で高いパルスエネルギーを作り出すための光学部品です。通常はレーザー発振器の筐体内に内蔵されています。
Qスイッチ一覧

q


quarter wave plate { よんぶんのいちはちょうばん } ( 1/4波長板 )
1/4波長板とは直線偏光を円偏光に、円偏光を直線偏光に変換する位相板を1/4波長板と言います。

r


random polarization { らんだむへんこう } ( ランダム偏光 )
ランダム偏光とは太陽光や電灯光などの一つの連続波が他とは関係なく発生しているバラバラな偏光を言います。

relay lens { りれーれんず } ( リレーレンズ )
リレーレンズとは、一つのレンズ系 によって作られた実像を、再び実像として結像させるレンズ系のことです。

resonator { きょうしんき } ( 共振器 )
共振器とはレーザー光が作られるために定常波を作り出す空間(全反射ミラーと出力ミラーの間)を言いますが、装置そのものを呼ぶ場合もあります。

resonator mirror { きゃびてぃーみらー } ( キャビティーミラー )
キャビティーミラーとはレーザー共振器内で使用されるミラーのことで出力ミラーと全反射ミラーがあります。

rotary attenuator { ろーたりーあってねーたー } ( ロータリーアッテネーター )
ロータリーアッテネーターとはレーザー光の光量を減衰させるための光学モジュールのことで、回転型の偏光素子を使用するタイプのモノを言います。

s


sapphire { さふぁいあ } ( サファイア )
サファイアとはレーザー用の光学材料で、この材料でレンズを製作すると通常のレンズと比べ規則正しい結晶構造をもつ ため、強度に優れ、屈折率1.77、アッべ数72というレンズになります。紫外線から中赤外線を透過する光学材料です。

saturation { さちゅれーしょん } ( サチュレーション )
サチュレーションとは飽和のことです。

saturation { ほうわ } ( 飽和 )
飽和とはある条件のもとで、ある量が増加していき、それ以上増加しなくなる最大限に達した状態のことです。

S


SBR { えすびーあーる } ( SBR )
SBRとはSaturable Bragg Reflectorの略で、飽和性色素のように、入射強度が大きくなると、吸収係数が減少し、吸収光量の飽和が起きる吸収体や、高い準位の放射の入射で吸収係数が減少するレーザー色素や光学素子などを言います。可飽和吸収体とも言います。

s


second harmonic generation { だいにこうちょうは } ( 第2高調波 )
第2高調波とはレーザー基本波の2倍の周波数(波長の2分の1)の総称です。YAGレーザーの場合は1064nmの1/2で532nmとなります。

second harmonic generation { えすえいちじー } ( SHG )
SHGとは Second Harmonic Generation の略で、レーザー基本波の2倍の周波数(波長の2分の1)の総称です。YAGレーザーの場合は1064nmの1/2で532nmとなります。

seed laser { たねこうげん } ( 種光源 )
種光源とはアンプ装置を取り付けたレーザー発振器の元となるレーザー光源のことを指します。

seed light { しーどこう } ( シード光 )
シード光とはアンプ装置を取り付けたレーザー発振器の元となるレーザー光源のことまたはその光のことを指します。

semiconductor laser { はんどうたいれーざー } ( 半導体レーザー )
半導体材料で作るレーザーを総称して半導体レーザーと呼びます。化合物半導体を使ったレーザーが多く、PN接合の手法を利用してレーザー光を作り出します。

shifter { しふたー } ( シフター )
レーザーでのシフターとは高調波結晶がダメージを受けた際にダメージのない場所に光を通すように高調波結晶を移動させるための構造を言います。

short pulse laser { たんぱるすれーざー } ( 短パルスレーザー )
短パルスレーザーとはパルス幅がピコ秒以下で発振するレーザー発振器のことです。加工用レーザー発振器としてはピコ秒とフェムト秒があります。
短パルスレーザー発振器一覧

shutter { しゃったー } ( シャッター )
シャッターとはレーザー光を遮るための光学系パーツです。

side pumping { さいどぽんぷ } ( サイドポンプ )
サイドポンプとは励起方法(ポンピング)の一種でレーザー媒質のロッドやディスクなどの横側から励起する構造です。横側とはレーザー光軸と直交する側、つまり水平方向になります。

single frequency { たんいつしゅうはすう } ( 単一周波数 )
単一周波数とは横シングルモードのレーザー発振において縦モードで完全に1本の発振周波数のみ出力することを言います。

single frequency { しんぐるふりーくえんしー } ( シングルフリークエンシー )
シングルフリークエンシーとは単一周波数のことで横シングルモードのレーザー発振において縦モードで完全に1本の発振周波数のみ出力することを言います。

single lens { しんぐるれんず } ( シングルレンズ )
シングルレンズとは1枚で構成されたレンズの総称です。

single mode { しんぐるもーど } ( シングルモード )
シングルモードとは横モードの一つでレーザー発振器から出射された光線の断面を見ると1個で点対称(円や楕円など)となるモードのことです。

single shot driling { しんぐるしょっとあなあけ } ( シングルショット穴あけ )
シングルショット穴あけとはパルスレーザーを使用した加工においてレーザーを1ショットだけを照射し穴をあける加工のこと。

solid state laser { こたいれーざー } ( 固体レーザー )
固体レーザーとはランプやLDでレーザー媒質(レーザーロッド等)を照射し、動作物質を励起してレーザー光を作り出すレーザー発振器のことで、加工用レーザーとしてはNd:YAGレーザーやファイバーレーザーがあります。

spatial mode { くうかんもーど } ( 空間モード )
空間モードとは横モードのことを指し共振器の光軸に垂直な方向のモードのことです。レーザー発振器から出射された光線の断面を見ると1個で点対称(円や楕円など)となる横シングルモードや複数の円や楕円が現れる横マルチモードがあります。

speed { かこうそくど } ( 加工速度 )
加工する速度。

standing wave { ていじょうは } ( 定常波 )
定常波とはレーザーの場合共振器内のミラーへ進む波と引き返す波がきれいに重なり止まったような波になることです。

stealth dicing { すてるすだいしんぐ } ( ステルスダイシング )
ステルスダイシングとはシリコンウエハの内部にレーザー光を照射して選択的に改質層を形成させながらダイシングラインを形成し、その改質層を垂直に成長させてチップ分割する仕組みのことです。ステルスとは内密という意味で、切断部がウエハ内部に隠れたままの状態でダイシングが行われることから命名されています。

stimulated emission { ゆうどうほうしゅつ } ( 誘導放出 )
上位の励起準位(Ea)に励起されている原子にEa-Eb相当の光が当たりその光子に誘導される様に光を出して下位準位(Eb)に原子が落ちます。この一連を誘導放出と呼びます。

stretcher { すとれっちゃー } ( ストレッチャー )
レーザーでのストレッチャーとはパルスストレッチャーのことを意味し、パルス幅を伸長させるための部分のことを言います。

synthetic fused silica { ごうせいせきえい } ( 合成石英 )
合成石英とは四塩化ケイ素を元に製造される石英材料のことで不純物が無くレーザーの光学材料として使用されています。紫外線から近赤外線をよく透過します。
硝材 一覧

t


telecentric lens { てれせんとりっくれんず } ( テレセントリックレンズ )
テレセントリックレンズとは、主光線がレンズ光軸に対して平行になるように設計されたレンズのことです。このため画角が限り無く0度に近く、ディストーション(歪曲収差)が小さいので、被写体の寸法や位置を正確にとらえる事が可能です。

T


TEM { てむ } ( TEM )
TEMとはTransverse Electromagnetic Mode の略で波の伝搬方向に電場の成分と磁場の成分がゼロですような導波路のモード。

t


third harmonic generation { だいさんこうちょうは } ( 第3高調波 )
第3高調波とはレーザー基本波の3倍の周波数(波長の3分の1)の総称です。YAGレーザーの場合は1064nmの1/3で355nmとなります。

third harmonic generation { てぃーえいちじー } ( THG )
THGとは Third Harmonic Generation の略で、レーザー基本波の3倍の周波数(波長の3分の1)の総称です。YAGレーザーの場合は1064nmの1/3で355nmとなります。

threshold { すれっしゅほーるど } ( スレッシュホールド )
スレッシュホールドとは閾値のことで、物質にエネルギーが加えられるときそのエネルギーによってある反応が起こる時、そのエネルギーがある値以上に強くなければ その反応は起こらない。その限界値のことです。 「しきい値」、「スレッショルド」ともいいます。

threshold { しきいち } ( 閾値 )
閾値とは、物質にエネルギーが加えられるときそのエネルギーによってある反応が起こる時、そのエネルギーがある値以上に強くなければ その反応は起こらない。その限界値のことです。 「しきい値」ともいいます。

threshold { すれっしょるど } ( スレッショルド )
スレッショルドとは閾値のことで、物質にエネルギーが加えられるときそのエネルギーによってある反応が起こる時、そのエネルギーがある値以上に強くなければ その反応は起こらない。その限界値のことです。 「しきい値」、「スレッシュホールド」ともいいます。

T


Ti: Sapphire { ちたんさふぁいあれーざー } ( Tiサファイアレーザー )
TiサファイアレーザーとはサファイアのロッドにTiをドープした(Al2O3+Ti2)固体レーザー媒質を用いてレーザー光を作り出すレーザー発振器のことです。

t


transverse mode { よこもーど } ( 横モード )
横モードとは共振器の光軸に垂直な方向のモードのことです。レーザー発振器から出射された光線の断面を見ると1個で点対称(円や楕円など)となる横シングルモードや複数の円や楕円が現れる横マルチモードがあります。

trepaning { とれぱにんぐあなあけ } ( トレパニング穴あけ )
トレパニング穴あけとはレーザー光をワーク上で円移動させて穴をあけるレーザー加工のことを言う。

triplet lens { とりぷれっとれんず } ( トリプレットレンズ )
トリプレットレンズとは3枚で構成されたフォーカスレンズの総称です。単レンズよりも収差補正が出来るため加工精度が上がります。

u


ultraviolet { ゆーぶい } ( UV )
UVとは英語のultravioletの略号で紫外線のことを意味します。紫外線とは名前の通り紫色の外側に有る光のことで人の目には見えない波長380nmより短い光のことを言います。光エネルギーが高くアブレーション加工に用いられる。

ultraviolet { しがいせん } ( 紫外線 )
紫外線とは名前の通り紫色の外側に有る光のことで人の目には見えない波長380nmより短い光のことを言います。光エネルギーが高くアブレーション加工に用いられます。

um { まいくろめーとる } ( μm )
μmとはマイクロメートルのことで国際単位系(SI)で、メートル法の単位の上に付けて100万分の1、すなわち1μmは1/100万メートルのことです。

U


UV laser { ゆーぶいれーざー } ( UVレーザー )
UVレーザーとは紫外線(UV)を発振するレーザー発振器のことをです。UVとは英語のultravioletの略号で紫外線のことを意味します。紫外線とは名前の通り紫色の外側に有る光のことで人の目には見えない波長380nmより短い光のことを言います。光エネルギーが高くアブレーション加工に用いられます。
紫外線(UV)レーザー発振器一覧
紫外線(UV)レーザーマーカー一覧

UV laser { しがいせんれーざー } ( 紫外線レーザー )
紫外線レーザーとは(UV)紫外線を発振するレーザー発振器のことです。UVとは英語のultravioletの略号で紫外線のことを意味します。紫外線とは名前の通り紫色の外側に有る光のことで人の目には見えない波長380nmより短い光のことを言います。光エネルギーが高くアブレーション加工に用いられます。
紫外線(UV)レーザー発振器一覧
紫外線(UV)レーザーマーカー一覧

v


variable attenuator { ばりあぶるあってねーたー } ( バリアブルアッテネーター )
バリアブルアッテネーターとはレーザー光の光量を減衰させるための光学モジュールのことで、角度依存型の光学素子を使用するタイプのモノを言います。

vibration isolation system { ぼうしんだい } ( 防振台 )
防振台とはレーザー発振器や光学系をセットする台のことで名前が示すように地面から伝わる振動を防ぐ構造をしています。
防振台一覧

visible { かしこう } ( 可視光 )
可視光とは人の目に見える領域の光のことを言い、波長380nmから780nmの光のことを言います。

visible laser { かしこうれーざー } ( 可視光レーザー )
可視光レーザーとは可視光域の光を発振するレーザー発振器のことです。可視光とは人の目に見える領域の光のことを言い、波長380nmから780nmの光のことを言います。
可視光レーザー発振器一覧
可視光レーザーマーカー一覧

w


wave length { はちょう } ( 波長 )
波長とは波の山から次の山、または谷から次の谷までの水平距離を指します。

wave plate { はちょうばん } ( 波長板 )
波長板とは直線偏光を円偏光に円偏光を直線偏光に変換する板状の光学素子のことを言います。また位相板とも言います。

X


XeCl { ぜのんくろらいど } ( XeCl )
XeClとはエキシマレーザーで使用されるガスでXeClガスを使用すると308nmの真空紫外線を発振します。
エキシマレーザー一覧

Y


YAG { やぐ } ( YAG )
YAGとはイットリウム、アルミニウム、ガーネット(Y3Al5O12)の略で固体レーザー発振器のレーザー媒質の一種です。固体レーザーの中でもっとも幅広く使用されているレーザー媒質です。

YAG laser { やぐれーざー } ( YAGレーザー )
YAGレーザーのYAGとはイットリウム・アルミニウム・ガーネットの略でYAGレーザーとはそれらYAG結晶にNdイオンなどがドープされたロッドやディスクにLD(ダイオードレーザー)やランプにより励起して作り出した波長1064nmのレーザー光を発振するレーザーのことです。

YLF { いるふ } ( YLF )
YLFとはリチウム・イットリウム・フロライド(LiYF4)の略で固体レーザー発振器のレーザー媒質の一種です。

YLF laser { いるふれーざー } ( YLFレーザー )
YLFレーザーのYLFとはリチウム・イットリウム・フロライドの略でYLFレーザーとはそれらYLF結晶にNdイオンなどがドープされたロッドやディスクにLD(ダイオードレーザー)やランプにより励起して作り出した波長1047nmや1053nmのレーザー光を発振するレーザーのことです。

YVO4 { わいぶいおーふぉー } ( YVO4 )
YVO4とはイットリウム・バナデート(YVO4)の略で固体レーザー発振器のレーザー媒質の一種です。

YVO4 laser { わいぶいおーふぉーれーざー } ( YVO4レーザー )
YVO4レーザーのYVO4とはイットリウム・バナデートの略でYVO4レーザーとはそれらYVO4結晶にNdイオンなどがドープされたロッドやディスクにLD(ダイオードレーザー)やランプにより励起して作り出した波長1064ミクロンのレーザー光を発振するレーザーのことです。

Z


ZnSe { じんくせれん } ( ZnSe )
ZnSeとは遠赤外線を透過する光学結晶のことでCO2レーザーのレンズに使用されています。




second { みりびょう } ( ミリ秒 )
ミリ秒とは国際単位系(SI)で、単位の上に付けて1000分の1、すなわち1ミリ秒は1/1000秒のことです。

second { みりせかんど } ( ミリセカンド )
ミリセカンドとはミリ秒のことで国際単位系(SI)で、単位の上に付けて1000分の1、すなわち1ミリセカンドは1/1000秒のことです。



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