IR （ ir ）
IRとは英語のinfraredの略号で赤外線を意味します。赤外線とは名前の通り赤色の外にある光で人の目には見えない波長780nmより長い光のことを言います。熱線とも呼ばれるように熱作用の大きい光です。
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IRレーザー （ ir laser ）
IRレーザーとはinfrared laserの事を指し赤外線を発振するレーザー発振器を意味します。赤外線とは波長780nmより長い光のことを言います。熱線とも呼ばれるように熱作用の大きい光です。CO2レーザーやYAGレーザーがあり鋼鈑や金属の溶接や切断に利用されています。
［IR（赤外線）レーザー発振器一覧］
［IR（赤外線）レーザーマーカー一覧］
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アッテネーター （ attenuator ）
アッテネーターとはレーザー光の光量を減衰させるための光学モジュールのことで、可変減衰できるモノが主流です。
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アパーチャー （ aperture ）
アパーチャーとは輪郭補正用の光学系パーツで通過する光の面積を制限するものです。 通常は板状の薄い金属板に丸や四角の穴の空いた形状をしています。
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アンプ （ amplifier ）
レーザーで使用されるアンプとはオシレーターから発振されたレーザー光のパワーを上げるために使用するレーザーに似た装置です。
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E/O Qスイッチ （ E/O Q switch ）
E/O Qスイッチとは電機光学効果結晶という電圧を加えると屈折率が変化する素子を使ったQスイッチのことです。
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1/e2 （ 1/e2 ）
1/e2とはビームの断面で、単位面積あたりのパワーが単位面積あたりの最大パワーの1/e となる対称の2点間の距離のことを言います。
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位相板 （ phase plate ）
位相板とは直線偏光を円偏光に円偏光を直線偏光に変換する板状の光学素子のことを言います。また波長板とも言います。
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YLF （ YLF ）
YLFとはリチウム・イットリウム・フロライド（LiYF4）の略で固体レーザー発振器のレーザー媒質の一種です。
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YLFレーザー （ YLF laser ）
YLFレーザーのYLFとはリチウム・イットリウム・フロライドの略でYLFレーザーとはそれらYLF結晶にNdイオンなどがドープされたロッドやディスクにLD（ダイオードレーザー）やランプにより励起して作り出した波長1047nmや1053nmのレーザー光を発振するレーザーのことです。
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インターナルトリガー （ internal trigger ）
インターナルトリガーとは装置内部でトリガー信号を送ることをいいます。レーザーの場合は内部からのTTL信号によりレーザーが発振する仕組みのことです。
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イントラキャビティー （ intra cavity ）
イントラキャビティーとはレーザー共振器（キャビティー）内に高調波結晶を配置した構造のことを言います。
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インナーマーキング （ inner marking ）
インナーマーキングとはガラスなどの透明体の内側にマーキングする技術です。材料を透過するレーザー光を使用することにより加工が出来ます。
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ArF （ ArF ）
ArFとはエキシマレーザーで使用されるガスでArFガスを使用すると193nmの真空紫外線を発振します。
［エキシマレーザー一覧］
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ARコーティング （ AR coating ）
ARコーティングとはAnti Reflection コーティングの略で反射防止膜のことです。レンズなどの光学素子にARコートを施すとガラス表面で起こる反射を防ぐことが出来、結果として透過効率を上げることが出来ます。
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A/O Qスイッチ （ A/O Q switch ）
A/O Qスイッチとは超音波をかけると屈折率が変化する素子を使ったQスイッチのことです。
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エキシマレーザー （ excimer laser ）
エキシマレーザーとはガスレーザーの一種で紫外線（UV）を発振するレーザー発振器です。ハロゲンガスとレアガスの組み合わせガスを使用し高電圧をかけ発振します。
［エキシマレーザー一覧］
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エクスターナルトリガー （ external trigger ）
エクスターナルトリガーとは外部からトリガー信号を送ることをいいます。レーザーの場合は外部からのTTL信号を受けてレーザーが発振する仕組みのことです。
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エクストラキャビティー （ extra cavity ）
エクストラキャビティーとはレーザー共振器（キャビティー）外に高調波結晶を配置した構造のことを言います。
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SHG （ second harmonic generation ）
SHGとは Second Harmonic Generation の略で、レーザー基本波の2倍の周波数（波長の2分の1）の総称です。YAGレーザーの場合は1064nmの1/2で532nmとなります。
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SBR （ SBR ）
SBRとはSaturable Bragg Reflectorの略で、飽和性色素のように、入射強度が大きくなると、吸収係数が減少し、吸収光量の飽和が起きる吸収体や、高い準位の放射の入射で吸収係数が減少するレーザー色素や光学素子などを言います。可飽和吸収体とも言います。
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Ho:YAG （ Ho:YAG ）
Ho:YAGとはYAGロッドにホルミウムHo3+をドープした固体レーザー媒質のことを言いますが、レーザー発振器そのものを指す場合もあります。
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NA （ NA ）
NAとは開口数のことで対物レンズの性能を示す数値の一つです。NAは、物体から対物レンズに入射する光線の光軸に対する最大角度をθ、物体と対物レンズの間の媒質の屈折率をnとして、NA = n sin θと表される。NAが大きいほど対物レンズの分解能は高くなる。
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ns （ ns ）
nsとはナノ秒のことで国際単位系（ＳＩ）で、メートル法の単位の上に付けて10億分の1、すなわち1nsは1/10億秒のことです。
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Nd:YAG （ Nd:YAG ）
Nd:YAGとはYAGロッドにネオジウムNd3+をドープした固体レーザー媒質のことを言いますが、レーザー発振器そのものを指す場合もあります。
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FHG （ fourth harmonic generation ）
FHGとは Fourth Harmonic Generation の略で、レーザー基本波の4倍の周波数（波長の4分の1）の総称です。YAGレーザーの場合は1064nmの1/4で266nmとなります。
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fs （ fs ）
fsとはフェムト秒のことで国際単位系（ＳＩ）で、単位の上に付けて1000兆分の1、すなわち1fsは1/1000兆秒のことです。
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Fθレンズ （ F-theta lens ）
Fθレンズとはガルバノスキャナーやポリゴンミラーと組み合わせて使用される特殊なレンズのことで、レーザーの走査速度を一定に補正するレンズです。
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F2 （ F2 ）
F2とはエキシマレーザーで使用されるガスでF2ガスを使用すると157nmの真空紫外線を発振します。
［エキシマレーザー一覧］
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ms （ ms ）
msとはミリ秒のことで国際単位系（ＳＩ）で、単位の上に付けて1000分の1、すなわち1msは1/1000秒のことです。
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M2 （ M square ）
M2とはレーザー光の横モード品質のことです。
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LD （ LD ）
半導体レーザーを英語でLaser Diode と呼びそれを略してLDと表します。
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LBO （ LBO ）
LBOとは非線形光学結晶（LiB3O5）のことで主に基本波を2倍波、3倍波、4倍波に変換するために使用されます。
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エンドポンプ （ end pumping ）
エンドポンプとは励起方法（ポンピング）の一種でレーザー媒質のロッドやディスクなどの後方から励起する構造です。後方とはレーザー光軸と同軸上の垂直方向になります。
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円偏光 （ circular polarization ）
円偏光とは光の進行方向に対し偏光面を示すベクトルの向きが円を描きながら回転している偏光のことを言います。
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オシレーター （ oscillator ）
オシレーターとはアンプ装置を取り付けたレーザー発振器の元となるレーザー光源のことまたはその光のことを指します。
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ω （ omega ）
ωとは基本波のことで高調波結晶を用いないで発振させた場合のレーザー光の総称を言います。YAGであれば1064nmの波長になります。
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