エキシマレーザーステッパー
プロセスルールの微細化により露光プロセスではより短波長の光を使っての露光が必要になったためエキシマレーザーが使用されるようになりました。現在ではエキシマレーザーＡｒＦ（１９３ｎｍ）も使われておりＦ２（157nm）の開発も進んでいます。スループットを上げるためレーザーは高繰り返しの物が使用されております。
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波長
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メーカー
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販売店
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既製品
受注品
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詳細
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紫外線(UV)
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ASML Netherlands B.V.
エーエスエムエル
オランダ
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エーエスエムエル・ジャパン株式会社
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キヤノン株式会社
Canon Inc.
日本
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キヤノン株式会社
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株式会社ニコン
Nikon Corporation
日本
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株式会社ニコン
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